[發明專利]一種用于優化光學系統參數的方法和裝置

有效

• 申請號: 201410542473.4
• 申請日: 2014-10-14
• 公開（公告）號: CN105571483B
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 王鑫;張振生;施耀明;徐益平
• 申請（專利權）人: 睿勵科學儀器（上海）有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 北京漢昊知識產權代理事務所(普通合伙) 11370
• 代理人: 羅朋

1.一種用于優化光學系統參數的方法，其中，該方法包括以下步驟：

S1對于多個測量模式中每一個測量模式，根據該測量模式下各個光學系統參數的標稱值以及預設最大誤差值，確定所有光學系統參數引入的總的系統噪聲，作為與該測量模式對應的系統噪聲，其中，所述測量模式規定了用于OCD測量的測量光的光譜類型以及各個光學系統參數的組合；

對于待測結構模型的每個結構參數，執行以下步驟：

S2對于多個測量模式中每一個測量模式，根據該測量模式所對應的系統噪聲，并結合該結構參數的標稱值與多個浮動值，同時基于所述待測結構模型的其他結構參數的標稱值，確定該結構參數在該測量模式下的可控測量精度；

S3根據該結構參數在所述多個測量模式下的多個可控測量精度，確定該結構參數的一個或多個可選測量模式，并將該結構參數分別在所述一個或多個可選測量模式下的一個或多個可控測量精度，作為該結構參數對應的可控測量精度。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述步驟S1包括基于所述多個測量模式中每一個測量模式執行的以下步驟：

S11對于所述各個光學系統參數中的每個光學系統參數，根據該光學系統參數的標稱值以及預設最大誤差值，確定該光學系統參數在該測量模式下引入的系統噪聲；

S12根據所述各個光學系統參數中的每個光學系統參數在該測量模式下引入的系統噪聲，確定所述與該測量模式對應的系統噪聲。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述步驟S11包括對于所述各個光學系統參數中的每個光學系統參數執行的以下步驟：

-在該測量模式下，根據該光學系統參數的標稱值以及預設最大誤差值，確定該光學系統參數的標稱值在所述待測結構模型上產生的一條光譜數據，及對所述標稱值上下浮動所述預設最大誤差值后所得的兩個數值分別在所述待測結構模型上產生的兩條光譜數據；

-根據該光學系統參數的標稱值對應的一條光譜數據以及所述兩個數值對應的兩條光譜數據，確定該光學系統參數引入的系統噪聲。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述步驟S2包括基于所述多個測量模式中的每個測量模式執行的以下步驟：

-在該測量模式下，根據其他結構參數的標稱值，確定該結構參數的標稱值與多個浮動值分別對應的光譜數據；

-根據該結構參數的標稱值與多個浮動值分別對應的光譜數據，獲得該結構參數在該測量模式下引起的多個光譜信號偏移量；

-根據所述多個光譜信號偏移量與該測量模式所對應的系統噪聲，確定該結構參數在該測量模式下的可控測量精度。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，被確定的可選測量模式為一個最佳測量模式，所述步驟S3包括以下步驟：

-從該結構參數在所述多個測量模式下的多個可控測量精度中選擇精度最高的可控測量精度所對應的測量模式，作為所述最佳測量模式，并將所述精度最高的可控測量精度，作為該結構參數對應的最佳可控測量精度。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述步驟S3包括以下步驟：

-將該結構參數在所述多個測量模式下的多個可控測量精度與預定參數容差值進行比對，并選擇在所述預定參數容差值限定的容差范圍內的可控測量精度所對應的測量模式，作為所述可選測量模式。

7.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，該方法在所述步驟S1之前還包括以下步驟：

-根據待測結構的材料與結構參數，建立所述待測結構模型。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述結構參數包括表示所述待測結構模型的結構特征的各種參數。

9.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，表示所述光譜類型的參數包括反射率參數、偏振態變化參數、用于偏振態分析的傅立葉系數、用于表示散射過程的穆勒矩陣和NCS譜型。