[發(fā)明專利]液晶顯示面板及其陣列基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410542116.8 | 申請日: | 2014-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN104267549A | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄭華 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市光明新區(qū)公*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 面板 及其 陣列 | ||
1.一種液晶顯示面板,包括多個像素單元,其特征在于,每一所述像素單元包括一像素電極,每一所述像素電極包括多個條狀的間隙和多個條狀的第一電極圖案,所述間隙與所述第一電極圖案交錯設置,
其中,在所述多個像素單元中,沿所述液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向所述液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向,每一所述像素單元中的所述間隙的面積之和逐漸增大,且每一所述像素單元中的所述第一電極圖案的面積之和不變。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,沿所述中間區(qū)域朝向所述兩側(cè)區(qū)域的方向,每一所述像素單元中的所述間隙的寬度依次增大、所述第一電極圖案的寬度不變,且所述第一電極圖案的寬度與所述間隙的寬度之和依次增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板,其特征在于,每一所述像素電極包括第一區(qū)域、第二區(qū)域、第三區(qū)域和第四區(qū)域,所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域并列設置,所述第一區(qū)域與所述第四區(qū)域?qū)窃O置,所述第二區(qū)域與所述第三區(qū)域?qū)窃O置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第一區(qū)域的所述第一電極圖案與所述第四區(qū)域的所述第一電極圖案的電極走向相同,所述第二區(qū)域的所述第一電極圖案與所述第三區(qū)域的所述第一電極圖案的電極走向相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第一區(qū)域的所述第一電極圖案與所述第四區(qū)域的所述第一電極圖案的電極走向呈第一方向,所述第二區(qū)域的所述第一電極圖案與所述第三區(qū)域的所述第一電極圖案的電極走向呈第二方向,且所述第一方向與所述第二方向相互垂直。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示面板,其特征在于,每一所述像素電極還包括第二電極圖案和第三電極圖案,所述第二電極圖案環(huán)繞所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域、所述第三區(qū)域和所述第四區(qū)域設置,所述第三電極圖案用于定義所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域、所述第三區(qū)域和所述第四區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述像素單元還對應連接掃描線、數(shù)據(jù)線,所述像素單元還包括驅(qū)動所述像素電極的薄膜晶體管,所述薄膜晶體管的柵極、源極和漏極分別與所述掃描線、所述數(shù)據(jù)線和所述像素電極電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括柵極驅(qū)動器和源極驅(qū)動器,所述柵極驅(qū)動器與所述掃描線連接,用于為所述多個像素單元提供掃描電壓,所述源極驅(qū)動器與所述數(shù)據(jù)線連接,用于為所述多個像素單元提供驅(qū)動電壓。
9.一種陣列基板,適用于液晶顯示面板,其特征在于,所述陣列基板包括多個像素單元,每一所述像素單元包括一像素電極,每一所述像素電極包括多個條狀的間隙和多個條狀的電極圖案,所述間隙與所述電極圖案交錯設置,
其中,在所述多個像素單元中,沿所述液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向所述液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向,每一所述像素單元中的所述間隙的面積之和逐漸增大,且每一所述像素單元中的所述電極圖案的面積之和不變。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的陣列基板,其特征在于,沿所述中間區(qū)域朝向所述兩側(cè)區(qū)域的方向,每一所述像素單元中的所述間隙的寬度依次增大、所述電極圖案的寬度不變,且所述電極圖案的寬度與所述間隙的寬度之和依次增大。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





