[發(fā)明專(zhuān)利]用于制備平版印刷版的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410541633.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-02-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104483818B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 青島德生 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/32 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/32;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/075 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 賀衛(wèi)國(guó) |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 式( 1 ) 制備平版印刷版 烷基 水不溶性 陰離子表面活性劑 平版印刷版原版 二價(jià)連接基團(tuán) 紅外線(xiàn)吸收劑 聚有機(jī)硅氧烷 堿溶性樹(shù)脂 堿性水溶液 聚氨酯樹(shù)脂 圖像記錄層 含雜原子 圖像曝光 陽(yáng)圖制版 記錄層 堿溶性 亞烷基 單鍵 顯影 下層 離子 上層 | ||
1.一種制備平版印刷版的方法,所述方法以下面的順序包括:
將平版印刷版原版進(jìn)行成圖像曝光,所述平版印刷版原版包括載體和設(shè)置在所述載體上的陽(yáng)圖制版圖像記錄層;和
使用包含陰離子表面活性劑并且具有8.5至10.8的pH的堿性水溶液,將所述平版印刷版原版顯影,
所述記錄層包括:包含(A)水不溶性且堿溶性樹(shù)脂和(B)紅外線(xiàn)吸收劑的下層;和包含(C)水不溶性且堿溶性聚氨酯樹(shù)脂和(D)聚有機(jī)硅氧烷的上層,
其中所述(C)水不溶性且堿溶性聚氨酯樹(shù)脂包括其基本骨架為由下式(I)表示的二異氰酸酯化合物與由下式(II)或(III)表示的至少一種羧酸二醇化合物的反應(yīng)產(chǎn)物的聚氨酯樹(shù)脂:
OCN-R1-NCO 式(I)
其中在式(I)中,R1表示二價(jià)連接基團(tuán);
式(II)中,R2表示氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷氧基或取代或未取代的芳氧基;
在式(II)或(III)中,R3、R4和R5各自表示單鍵或二價(jià)連接基團(tuán);并且
在式(III)中,Ar表示可以具有取代基的三價(jià)芳族烴基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(A)水不溶性且堿溶性樹(shù)脂包括具有至少一種選自由酚式羥基、羧基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基和活性酰亞胺基組成的組中的基團(tuán)的樹(shù)脂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(B)紅外線(xiàn)吸收劑包括花青染料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(C)水不溶性且堿溶性聚氨酯樹(shù)脂包括在其聚合物骨架中具有羧基的聚氨酯樹(shù)脂。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中在式(I)中,R1表示具有2至10個(gè)碳原子的亞烷基或具有6至30個(gè)碳原子的亞芳基;
式(II)中,R2表示氫原子、具有1至8個(gè)碳原子的未取代烷基或具有6至15個(gè)碳原子的未取代芳基,并且R3、R4和R5各自表示具有1至20個(gè)碳原子的未取代亞烷基或具有6至15個(gè)碳原子的未取代亞芳基;
在式(III)中,Ar表示具有6至15個(gè)碳原子的亞芳基,并且R3、R4和R5各自表示具有1至20個(gè)碳原子的未取代亞烷基或具有6至15個(gè)碳原子的未取代亞芳基。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(D)聚有機(jī)硅氧烷包括選自由以下各項(xiàng)組成的組中的至少一個(gè):聚醚改性的聚有機(jī)硅氧烷、醇改性的聚有機(jī)硅氧烷和羧基改性的聚有機(jī)硅氧烷。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(D)聚有機(jī)硅氧烷包括通過(guò)水解縮合在由下列式(A)表示的化合物中的烷氧基硅烷而得到的化合物:
RSi(OR’)3 (A)
其中在式(A)中,R表示烷基或芳基,并且R’各自獨(dú)立地表示烷基。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述(D)聚有機(jī)硅氧烷包括選自由以下各項(xiàng)組成的組中的至少一個(gè):由下列式(a)表示的接枝嵌段聚硅氧烷和由下列式(b)表示的嵌段聚硅氧烷:
其中在式(a)和(b)中,n、p和q各自獨(dú)立地表示1以上的整數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述陰離子表面活性劑包括含有磺酸或磺酸鹽的陰離子表面活性劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備平版印刷版的方法,其中所述陰離子表面活性劑的含量為0.5至15質(zhì)量%。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于富士膠片株式會(huì)社,未經(jīng)富士膠片株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410541633.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?;蝾?lèi)似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 平版印刷版的積層產(chǎn)品和平版印刷版的積層方法
- 平版印刷版、平版印刷版材料、用于平版印刷版材料的支持體以及平版印刷方法
- 平版印刷版用鋁合金板、平版印刷版用支撐體及平版印刷版用原版
- 平版印刷版用版清洗劑以及平版印刷版用版面處理方法
- 平版印刷版原版以及平版印刷版的制版方法
- 平版印刷版處理裝置及制版系統(tǒng)、平版印刷版、平版印刷版的處理方法及印刷方法
- 平版印刷版原版、使用其的平版印刷版的制造方法及印刷物的制造方法
- 機(jī)上顯影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法
- 機(jī)上顯影型平版印刷版原版用粒子、平版印刷版原版
- 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及固化性組合物





