[發明專利]螺環盤狀液晶化合物及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 201410541127.4
• 申請日: 2014-10-14
• 公開（公告）號: CN104327090B
• 公開（公告）日: 2017-06-27
• 發明（設計）人: 郭劍;李正強;張興
• 申請（專利權）人: 石家莊誠志永華顯示材料有限公司
• 主分類號: C07D493/14
• 分類號: C07D493/14;C09K19/34;G02B5/30;G02B1/04;H01L51/54;H01L51/46
• 代理公司: 北京市蘭臺律師事務所11354
• 代理人: 張峰

1.式I所示化合物：

所述式I中，R_A為R¹-(Z¹-A¹-Z²)_x-；

R_B為-(Z³-A²-Z⁴)_y-R²；

其中，R¹、R²獨立地選自H、-F、-Cl、碳原子總數為1-15的烷基、碳原子總數為1-15的烷氧基、氟代的碳原子總數為1-15的烷基和氟代的碳原子總數為1-15的烷氧基中的任意一種；

Z¹、Z²、Z³和Z⁴獨立地選自碳原子總數為1-15的直鏈烷基、氟代的碳原子總數為1-15的直鏈烷基和碳碳單鍵中的至少一種；

A¹獨立地選自1,4-亞環己基、1,4-亞苯基、氟代的1,4-亞環己基、氟代的1,4-亞苯基和碳碳單鍵中的任意一種；

A²獨立地選自1,4-亞苯基、氟代的1,4-亞環己基、氟代的1,4-亞苯基中的任意一種；

x為0-3的整數；

y為1-3的整數；

所述x或y獨立地為2或3時，結構單元Z¹-A¹-Z²中，Z¹在每次出現時相同或不同，A¹在每次出現時相同或不同，Z²在每次出現時相同或不同；結構單元Z³-A²-Z⁴中，Z³在每次出現時相同或不同，A²在每次出現時相同或不同，Z⁴在每次出現時相同或不同。

2.一種制備權利要求1所述式I所示化合物的方法，包括如下步驟：

1)將鄰苯二酚與式II所示的炔在羰基釕為催化劑的條件下，進行環化反應，反應完畢后得到式III所示化合物；

2)將式III所示取代雜環化合物在三氯化鐵為催化劑的條件下，微波進行環化反應，反應完畢后得到式I所示化合物。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：所述步驟1)中，鄰苯二酚與式II化合物的摩爾比為1:1～1.5；鄰苯二酚與羰基釕的摩爾比為1:0.1～1.0；

所述步驟2)中，式III化合物與三氯化鐵的摩爾比為1:1～5。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于：所述步驟2)中，式III化合物與三氯化鐵的摩爾比為1:1.0、1:2.0、1:3.0、1:4.0或1:5.0。

5.根據權利要求2-4中任一項所述的方法，其特征在于：

所述步驟1)中，環化反應溫度為0℃～100℃；反應時間為2～12小時；

所述步驟2)中，環化反應溫度為0℃～100℃；反應時間為1～30分鐘；

所述步驟1)和步驟2)在溶劑中進行；

所述溶劑具體選自四氫呋喃、己烷、二氯甲烷、乙酸、二甲苯、乙醇、甲苯、水、鄰二氯苯、醋酸和1,4-二氧六環中的至少一種；

所述步驟1)和步驟2)中，反應氣氛為惰性氣氛。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于：

所述步驟1)中，環化反應溫度為80℃～100℃；反應時間為6～8小時；

所述步驟2)中，環化反應溫度為20℃～40℃；反應時間為1～10分鐘；

所述反應氣氛為氬氣氣氛。

7.權利要求1所述式I所示化合物在光學補償膜材料中的應用。

8.含有權利要求1所述式I所示化合物的光學補償膜材料。