[發明專利]金屬母盤表面清洗溶液的配制方法

有效

• 申請號: 201410540559.3
• 申請日: 2014-10-14
• 公開（公告）號: CN104299630A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 華凌;張科;張琦
• 申請（專利權）人: 江蘇新廣聯科技股份有限公司
• 主分類號: G11B23/50
• 分類號: G11B23/50
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 曹祖良

本發明涉及一種金屬母盤表面清洗溶液的配制方法，屬于清洗劑技術領域。

背景技術

光盤生產過程中所使用的金屬母盤，其制作過程是在光學玻璃上均勻涂布光刻膠，利用激光在光刻膠涂層上進行刻錄，使用顯影液對刻錄坑點進行顯影，然后在其表面濺鍍一層銀。在電鑄過程中，玻璃表面形成的鎳盤在與玻璃分離后表面坑點的坑面和臺面會殘留大量的光刻膠、銀等雜質，造成金屬母盤的誤碼增大，超標，外觀灰暗，同時在金屬母盤的使用、傳遞過程中會使金屬母盤沾上灰塵、手印、油漬等污染物，同樣會造成金屬母盤的誤碼超標、外觀不良。

發明內容

本發明的目的在于提供一種簡單、易操作的金屬母盤表面清洗溶液的配制方法，利用這種清洗溶液，可以將金屬母盤表面的污染物清洗掉，確保生產的母盤其誤碼及外觀得到改善，從而使其生產的光盤外觀和性能更好。

按照本發明提供的技術方案，一種金屬母盤表面清洗溶液的配制方法，原料按重量份計如下：混合磷酸鹽1-2份，氨基磺酸1-1.5份，濕潤劑1-3份，氫氧化鈉10-12份，去離子水150-200；將上述原料混合，調節pH至11-12，保持溫度為45-55℃，即得到金屬母盤表面清洗溶液。

所述混合磷酸鹽為pH為6-7的中性標準緩沖液，含有Na₂HPO₄和KH₂PO₄。

所述濕潤劑為陰離子型表面活性劑，包括烷基硫酸鹽、磺酸鹽、脂肪酸、脂肪酸酯硫酸鹽、磷酸酯等，具有優良的去垢能力和增溶的傾向。

將金屬母盤表面清洗溶液加熱至45-55℃，將其置于待清洗的金屬母盤槽內，循環流動；增加一個過濾器，用來捕捉清洗出來的污染物。

本發明的有益效果：本發明提供的清洗溶液對環境的污染較小，廢水處理簡單；此配方溶液具有較強的溶解性，能夠吸附金屬母盤上的油脂、手印、灰塵等，同時也能有效的去處母盤上的光刻膠；溶液的pH維持在12左右，溫度保持50℃左右，磷酸鹽用來提高清洗效果，濕潤劑用來減少表面張力，使污染物更加容易分離；維護保養簡單，每2周清洗溶劑槽、更換溶劑。

具體實施方式

以下施例中的氫氧化鈉為EL級，分子量40.00。

實施例1

一種金屬母盤表面清洗溶液配制，按重量份計如下：混合磷酸鹽1份，氨基磺酸1份，濕潤劑1份，氫氧化鈉10份，去離子水200；將上述原料混合，調節pH至11-12，保持溫度為45-55℃，即得到金屬母盤表面清洗溶液。

所述混合磷酸鹽為pH為6.86的中性標準緩沖液，含有Na₂HPO₄和KH₂PO₄。

所述濕潤劑為陰離子型表面活性劑烷基硫酸鹽。

NaOH使溶液的pH值維持在12左右；加熱器使溶液溫度維持在45-55℃；溶液在槽內循環流動，增加一個過濾器，用來捕捉清洗出來的污染物。

實施例2

一種金屬母盤表面清洗溶液配制，按重量份計如下：混合磷酸鹽2份，氨基磺酸1.5份，濕潤劑3份，氫氧化鈉12份，去離子水150；將上述原料混合，調節pH至12，保持溫度為50℃，即得到金屬母盤表面清洗溶液。

所述混合磷酸鹽為pH為6.86的中性標準緩沖液，含有Na₂HPO₄和KH₂PO₄。

所述濕潤劑為陰離子型表面活性劑磺酸鹽。

實施例3

一種金屬母盤表面清洗溶液配制，按重量份計如下：混合磷酸鹽1.5份，氨基磺酸1.2份，濕潤劑1份，氫氧化鈉11份，去離子水180；將上述原料混合，調節pH至12，保持溫度為50℃，即得到金屬母盤表面清洗溶液。

所述混合磷酸鹽為pH為6.86的中性標準緩沖液，含有Na₂HPO₄和KH₂PO₄。

所述濕潤劑為陰離子型表面活性劑脂肪酸。

目前市場上主要有ISOPREP、StamperPrep這2種專門用于光盤生產的清洗劑，本發明實施例1-3制備的金屬母盤表面清洗溶液的成本只相當于這2款清洗劑的十分之一，價格低廉，配置簡單方便，即配即用，具有廣泛的工業應用前景。