[發明專利]隱形眼鏡免水化加工方法在審
| 申請號： | 201410538368.3 | 申請日： | 2014-10-13 |
| 公開（公告）號： | CN105563861A | 公開（公告）日： | 2016-05-11 |
| 發明（設計）人： | 張文燦 | 申請（專利權）人： | 奇鼎科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B29D11/00 | 分類號： | B29D11/00;B29C35/08 |
| 代理公司： | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人： | 孫皓晨 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 隱形眼鏡 水化 加工 方法 | ||
1.一種隱形眼鏡免水化加工方法，其特征在于其包含以下步驟：
一光學模備制步驟，射出至少一個光學模，使得該光學模作表面處理，再提 供調配后的單體注入該光學模內，并進行堆疊該光學模于制具上形成一高塔狀；
一UV光固化步驟，利用一電動裝置旋動該制具，并再藉由一可調控的UV 燈進行一前固化照度0.1～5mw/cm2與一后固化照度10～100mw/cm2使得該單體成為鏡 片膜，再將該光學模依序從堆疊整列中取下，再進行該鏡片膜的檢查；及
一包裝滅菌步驟，添加占有該光學模容積10％～20％的稀釋劑于該光學模內， 再令一金屬箔貼合于該光學模表面以封裝該鏡片膜，且再進行滅菌包裝。
2.如權利要求1所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的調 配后的單體為一染色單體或一占有該單體重量0.001％～0.5％的反應型染料的單體。
3.如權利要求1所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的光 學模內更加入一占有該光學模容積0.01％～3％的反應型紫外光吸收劑。
4.如權利要求1所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的光 學模作表面處理，再移印一無溶劑型油墨于該光學模內。
5.如權利要求1所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該包裝滅菌步驟的稀釋 劑為甘油或水或乙醇或異丙醇或硼酸酯其中之一。
6.一種隱形眼鏡免水化加工方法，其特征在于其包含以下步驟：
一光學模備制步驟，射出一具公模與母模的光學模，使得該公模與該母模的 光學模作表面處理，再提供調配后的單體注入該母模的光學模內，并使該該公模與該 母模的光學模壓合；
一UV光固化步驟，藉由一可調控的UV燈進行一前固化照度0.1～5mw/cm2與一后固化照度10～100mw/cm2使得該單體成為鏡片膜，再將該公模的光學模取開以 使得該鏡片膜置于該母模的光學模上，再進行該鏡片膜的檢查；及
一包裝滅菌步驟，添加占有該母模的光學模容積的10％～20％的稀釋劑于該母 模的光學模內，再令一金屬箔貼合于該母模光學模表面以封裝該鏡片膜，且再進行滅 菌包裝。
7.如權利要求6所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的調 配后的單體為一染色單體或一占有該單體重量0.001％～0.5％的反應型染料的單體。
8.如權利要求6所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的母 模的光學模更加入一占有該母模的光學模容積0.01％～3％的反應型紫外光吸收劑。
9.如權利要求6所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該光學模備制步驟的公 模與母模的光學模作表面處理，再移印一無溶劑型油墨于該母模的光學模內。
10.如權利要求6所述的隱形眼鏡免水化加工方法，其中，該包裝滅菌步驟的稀 釋劑為甘油或水或乙醇或異丙醇或硼酸酯其中之一。
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