[發明專利]一種基于光刻技術的光學場景灰度模擬方法

有效

• 申請號: 201410538305.8
• 申請日: 2014-10-14
• 公開（公告）號: CN105571823B
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 康為民
• 申請（專利權）人: 哈爾濱新光光電科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于光刻技術的光學場景灰度模擬方法，其特征是，該方法應用在紅外靜態圖像目標模擬器中，該目標模擬器通過在實驗室條件下模擬紅外光學目標來對導引頭光學系統性能進行測試，而目標源是該目標模擬器的重要組成部分，目標源上至少一個像元與探測器的一個像元相對應；在目標源上每個像元通過光刻的方式改變其整體透光面積，使它們能夠模擬全部256個灰度級，從而實現目標模擬器對不同目標場景的灰度模擬；所述像元，每一個又分為n行n列個大小、形狀都相同的方框元，為保證透過能量在像元上均勻變化，方框元的方陣階數n不小于3；所述方框元，每一個劃分成256×m個大小、形狀都相同的微框元；當所有方框元全不透光時該像元的灰度級為0，當所有方框元全透光時該像元的灰度級為255；在每一個方框元的相同位置令h×m個微框元透光時，該像元的灰度級為h。