[發明專利]采用腔面光柵的波長穩定半導體激光器有效
| 申請號: | 201410535783.3 | 申請日: | 2014-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN104269738A | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 王勇;郝永芹;馮源;鄒永剛;蘆鵬;李再金;李洋;劉丹丹;葉鎮;高占琦 | 申請(專利權)人: | 長春理工大學 |
| 主分類號: | H01S5/068 | 分類號: | H01S5/068;H01S5/10 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標代理事務所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
| 地址: | 130022 吉林*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 光柵 波長 穩定 半導體激光器 | ||
1.一種采用腔面光柵的波長穩定半導體激光器,是一種邊發射半導體激光器,激光器芯片外延結構的前腔面、后腔面均覆有增透膜(1),在后腔面增透膜(1)上沉積有增反膜(2);其特征在于,所述增透膜(1)為Si3N4膜;所述增反膜(2)的膜系結構及材料為[Ge/SiO2]3Ge;在前腔面增透膜(1)上沉積有一組平行條形增反膜(3),由前腔面增透膜(1)和該組條形增反膜(3)構成腔面光柵(4),腔面光柵(4)方向與所述外延結構襯底方向垂直,腔面光柵(4)占空比σ為0.2~0.3,所述條形增反膜(3)的膜系結構及材料為[Ge/SiO2]3Ge。
2.根據權利要求1所述的采用腔面光柵的波長穩定半導體激光器,其特征在于,所述增透膜(1)的膜厚為101nm;所述增反膜(2)的膜厚為607.6nm;所述條形增反膜(3)的膜厚為607.6nm。
3.根據權利要求1所述的采用腔面光柵的波長穩定半導體激光器,其特征在于,所述腔面光柵4的周期為一級周期120nm,或者二級周期240nm。
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