[發明專利]氨基硅氧烷合成物及其使用方法

有效

• 申請號: 201410532976.3
• 申請日: 2014-10-10
• 公開（公告）號: CN104558000B
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發明（設計）人: M.J.奧布里恩;R.L.法努姆;R.J.佩里
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C07F7/10
• 分類號: C07F7/10;B01D53/14
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周李軍;林森

1.一種減少工藝流中的二氧化碳量的方法，所述方法包括將所述工藝流與二氧化碳吸收劑合成物接觸的步驟，所述二氧化碳吸收劑合成物基本上不含共溶劑，所述二氧化碳吸收劑合成物包括結構(I)的氨基硅氧烷：

其中R¹是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團；R²是C₃-C₄脂肪族基團；R³是C₁-C₅脂肪族基團或者R⁴，其中R⁴為結構(II)：

并且

X是給電子基團，其中X選自：R⁵O-基團；R⁵S-基團；(R⁵)₂N-基團；或者嗎啉基團，其中R⁵是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述氨基硅氧烷為結構(Ia)：

其中R¹是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團；R²是C₃-C₄脂肪族基團；并且X是給電子基團，其中X選自：R⁵O-基團；R⁵S-基團；(R⁵)₂N-基團；或者嗎啉基團，其中R⁵是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述氨基硅氧烷為結構(Ic)：

其中X是給電子基團，其中X選自：R⁵O-基團；R⁵S-基團；(R⁵)₂N-基團；或者嗎啉基團，其中R⁵是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團。

4.根據權利要求1所述的方法，其中X進一步選自：CH₃O-基團；C₂H₅O-基團；(CH₃)₂N-基團；(C₂H₅)₂N-基團，或者嗎啉基團。

5.根據權利要求1所述的方法，其進一步包括形成所述氨基硅氧烷與二氧化碳的反應產物，其中所述反應產物在室溫下基本上為液體。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述工藝流來自以下項中的至少一項：燃燒過程、氣化過程、廢渣填埋、熔爐、蒸汽發生器和鍋爐。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述工藝流來自燃料的加工。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述燃料包括煤。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述工藝流包括合成氣。

10.一種減少工藝流中的二氧化碳量的方法，所述方法包括將所述工藝流與二氧化碳吸收劑合成物接觸的步驟，所述二氧化碳吸收劑合成物基本上不含共溶劑，所述二氧化碳吸收劑合成物包括結構(Ib)的氨基硅氧烷：

其中R¹是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團；并且X選自R⁵O-基團；R⁵S基團；(R⁵)₂N-基團；或者嗎啉基團，其中R⁵是在各種情況下獨立的C₁-C₅脂肪族基團。