[發明專利]一種銅鋅錫硫薄膜太陽電池器件及其制備方法在審
| 申請號: | 201410528411.8 | 申請日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN104409559A | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發明(設計)人: | 薛玉明;劉浩;劉君;李鵬海;潘洪剛;宋殿友;朱亞東;郭曉倩;馮少君;尹富紅;高林;航偉;喬在祥;關昊;孫碩;曲慧楠;李宇;王玉昆;李鵬宇 | 申請(專利權)人: | 天津理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/072 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300384 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 銅鋅錫硫 薄膜 太陽電池 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種聚酰亞胺柔性襯底的銅鋅錫硒薄膜的制備方法,其特征在于:采用共蒸發薄膜制備系統,應用底溫一步共蒸發的制備工藝。
2.根據權利要求1所述的銅鋅錫硫薄膜的制備方法,其特征在于:
本底真空為3.0×10-4Pa,襯底溫度為300-350℃,Cu蒸發源溫度為1100-1200℃,ZnS蒸發源溫度為1000-1100℃,Sn蒸發源溫度為1000-1100℃,S蒸發源溫度為75-85℃,共蒸發Cu、ZnS、Sn、S四種元素,蒸發時間為30-50min,得到的薄膜為p型直接帶隙半導體,鋅黃錫礦結構。通過調整襯底、各蒸發源溫度及共蒸時間,控制銅鋅錫硫薄膜貧銅富鋅,其中Cu/(Zn+Sn)=0.8-1.0,Zn/Sn=1.0-1.2,S/(Cu+Zn+Sn)約等于1,隨后將襯底及各蒸發源冷卻至室溫。
3.根據權利要求2所述的銅鋅錫硫薄膜的制備方法,其特征在于:優選的襯底溫度為350℃,Cu蒸發源溫度為1200℃,ZnS蒸發源溫度為1100℃,Sn蒸發源溫度為1100℃,S蒸發源溫度為85℃,共蒸發Cu、ZnS、Sn、S四種元素,蒸發時間為50min。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





