[發明專利]鍵盤在審
| 申請號: | 201410522661.0 | 申請日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN104319143A | 公開(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發明(設計)人: | 江英德;支劭祺;趙令溪 | 申請(專利權)人: | 蘇州達方電子有限公司;達方電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H13/83 | 分類號: | H01H13/83 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215011 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍵盤 | ||
技術領域
本發明是有關于一種鍵盤,且特別是有關于一種具有光萃取點的鍵盤。
背景技術
傳統發光鍵盤包括導光板及光源。導光板具有數個光萃取點,使光源發射的光線入射至光萃取點后,擴散地出光。然而,光線的行經路徑愈遠,其光強度愈弱,如此使得光線入射至離光源較遠的光萃取點后,擴光效果相對較低,反而導致整體的出光不均勻。
發明內容
本發明關于一種鍵盤,旨在進一步改善現有技術中發光鍵盤整體出光不均勻的問題。
本發明公開了一種鍵盤,該鍵盤包括:按壓元件,具有透光區;導光板,與該按壓元件相對配置,且該導光板具有出光區、光萃取區及復數個光萃取點,其中該出光區與該透光區相對設置,該光萃取區為該復數個光萃取點所圍成的區域,該光萃取區的該復數個光萃取點彼此接觸,該光萃取區與該出光區重疊,或者該光萃取區與該出光區完全不重疊;光源,設置導光板的一側;以及觸發基板,設置于該按壓元件下方。
作為優選的方案,該光萃取區的面積大于或等于該出光區的面積。
作為優選的方案,該導光板具有出光面,該光萃取區形成于該導光板的該出光面。
作為優選的方案,該導光板具有下表面,該光萃取區形成于該導光板的該下表面。
作為優選的方案,該導光板具有出光面及與該出光面相對的下表面,該光萃取區中的一些該光萃取點形成于該導光板的該出光面,而該光萃取區中的另一些該光萃取點形成于該導光板的該下表面。
作為優選的方案,形成于該導光板的該出光面的該些光萃取點與形成于該導光板之該下表面的該些光萃取點交錯排列。
作為優選的方案,該按壓元件為撓性膜。
作為優選的方案,該按壓元件包括復數個按壓區及復數個該透光區,各個該按壓區具有對應的該透光區。
作為優選的方案,該觸發基板位觸控面板。
作為優選的方案,該觸發基板為薄膜開關層。
作為優選的方案,該光萃取區包含沿著遠離該光源方向依序排列的第一光萃取區及第二光萃取區,其中,該第一萃取區與對應的該出光區完全不重疊;該第二光萃取區與對應的該出光區完全重疊。
作為優選的方案,該導光板具有相對的出光面與下表面,該光萃取區包含沿著遠離該光源方向依序排列的第一光萃取區、第二光萃取區及第三光萃取區,其中,該第一光萃取區與對應的該出光區完全不重疊;該第二光萃取區形成于該導光板的該出光面與該下表面;該第三光萃取區與對應的該出光區完全重疊。
作為優選的方案,該導光板具有相對的出光面與下表面,該光萃取區包含沿著遠離該光源方向依序排列的第一光萃取區、第二光萃取區及第三光萃取區,其中,該第一光萃取區與對應的該出光區完全不重疊且形成于該導光板的該出光面;該第二光萃取區與對應的該出光區完全重疊且形成于該導光板的該出光面;該第三光萃取區與對應的該出光區完全重疊且形成于該導光板的該下表面。
作為優選的方案,該導光板具有相對的出光面與下表面,包含沿著遠離該光源方向依序排列的第一光萃取區、第二光萃取區及第三光萃取區,其中,該第一光萃取區形成于該導光板的該出光面;該第二光萃取區形成于該導光板的該出光面及該下表面;該第三光萃取區形成于該導光板的該下表面。
作為優選的方案,該按壓元件包括:鍵帽;底板,設置于該鍵帽下方;升降機構,設置于該觸發基板與該鍵帽之間,該升降機構用以輔助該鍵帽相對于該底板升降;以及彈性件,設置于該觸發基板與該鍵帽之間,該彈性件用以提供回復力使該鍵帽復位。
本發明還公開了一種鍵盤,該鍵盤包括:按壓元件,具有透光區;導光板,設置于該按壓元件下方,該導光板具有復數個光萃取點,每一光萃取點具有萃取點外緣,該透光區垂直向下投影至該導光板上以定義出出光區,該出光區具有第一外周緣;
其中,該復數個光萃取點緊密排列而使該復數個萃取點外緣相互切齊或部分重疊,該復數個光萃取點所占據的全部區域定義為光萃取區,該光萃取區具有第二外周緣;
其中該光萃取區中心點正對該出光區中心點,該光萃取區與該出光區重疊,且該光萃取區的該第二外周緣至少部分切齊該出光區的該第一外周緣。
本發明還公開了一種鍵盤,該鍵盤包括:按壓元件,具有透光區;導光板,設置于該按壓元件下方,該導光板具有復數個光萃取點,每一光萃取點具有萃取點外緣,該透光區垂直向下投影至該導光板上以定義出出光區,該出光區具有第一外周緣;
其中,該些光萃取點排列緊密而使該些萃取點外緣相互切齊或部分重疊,該復數個光萃取點所占據的全部區域定義為光萃取區,該光萃取區具有第二外周緣;
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