[發明專利]一種仿真預測和實際生產相集成的閉環質量控制仿真方法

在審

• 申請號: 201410522205.6
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN104268350A
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 王佩;李翌輝;蘇曉毅;張鎂
• 申請（專利權）人: 中國西電電氣股份有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 蔡和平

1.一種仿真預測和實際生產相集成的閉環質量控制仿真方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將零件加工過程產生的誤差源轉換到微元坐標系下進行耦合，然后根據耦合后的誤差，同時考慮實際生產狀態對誤差源的影響，建立預測模型；

2)采集誤差信息，將其作為預測模型的輸入；

3)將預測模型轉換為動態SOV模型，建立與SOV模型對應的OSFE方程，得到獨立同分布的偏差；

4)根據獨立同分布的偏差設計預測模型的控制圖；

5)建立線性調整模型和MGWMA控制器；

6)根據MGWMA控制器求解控制器的協方差陣；

7)使MGWMA控制圖在初始誤差源的基礎上引入一個偏差，使控制圖失控，然后調整誤差源，直至該統計量小于該控制限。

2.根據權利要求1所述的一種仿真預測和實際生產狀態相集成的閉環質量控制仿真方法，其特征在于，所述步驟4)中，設計預測模型的控制圖的方法為：

4.1)根據SOV模型計算獨立同分布偏差的均值向量和協方差矩陣的估計值；

4.2)根據獨立同分布偏差的均值向量和協方差矩陣的估計值計算統計量；

4.3)根據統計量服從的分布求解多元統計過程的控制限。

3.根據權利要求2所述的一種仿真預測和實際生產狀態相集成的閉環質量控制仿真方法，其特征在于，所述步驟4.1)根據以下公式計算：

e^‾kdk=e^‾k1dke^‾k2dk...e^‾ksdkT]]>

sk=1mΣi=1m(e^ki-e^‾k)(e^ki-e^‾k)T]]>

其中，表示的是誤差源產生的偏差在工序k的獨立同分布偏差的均值向量。