[發明專利]光學測量裝置

有效

• 申請號: 201410520617.6
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN104515739B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 大澤賢太郎
• 申請（專利權）人: 日立樂金光科技株式會社
• 主分類號: G01N21/21
• 分類號: G01N21/21;G01N21/45
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 龍淳

1.一種光學測量裝置，其特征在于，包括：

出射激光的光源；

使所述激光分束為信號光、參考光和控制光的光分束部；

使所述信號光會聚照射在測量對象上的物鏡；

使所述信號光的會聚位置掃描的會聚位置掃描部；

控制所述控制光的離焦量的離焦控制部；

控制所述控制光與信號光之間的相位差的相位控制部；

使被測量對象反射或散射的信號光與所述控制光合束，生成被控信號光的被控信號光生成部；

使所述被控信號光與所述參考光合束，生成相位關系彼此不同的多束干涉光的干涉光學系統；和

對所述干涉光進行檢測的光檢測器。

2.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

所述物鏡的數值孔徑為0.4以上。

3.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

包括對所述控制光附加球面像差的球面像差附加部。

4.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

所述離焦控制部控制所述控制光的離焦量，使得所述控制光的離焦量與包含在所述信號光中的從測量對象表面或保持測量對象的保持部反射的光的離焦量相等。

5.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

當令所述激光的波長為λ、所述物鏡的數值孔徑為NA時，

所述離焦控制部控制所述控制光的離焦量，使得所述控制光的離焦量與包含在所述信號光中的從測量對象表面或保持測量對象的保持部反射的光的離焦量的差為0.856λ/(NA)²以下。

6.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

所述光分束部包括將所述激光分束為信號光和參考光這2束光的光分束元件，和被插入到所述信號光或所述參考光的光路中的平板，

所述平板使所述信號光或所述參考光的一部分反射而形成控制光。

7.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

包括用于調整包含在所述被控信號光中的控制光的強度的部件。

8.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

所述干涉光學系統中生成的干涉光為4束，

所述信號光與所述參考光的干涉相位彼此相差約90度的整數倍，

所述信號光與所述參考光的干涉相位彼此相差約180度的干涉光的對，由電流差動式光檢測器檢測。

9.如權利要求1所述的光學測量裝置，其特征在于：

包括光程調制部，以比因所述信號光的會聚位置的掃描而產生的信號光的光程的變化速度更高的速度，對所述信號光與所述參考光的光程差進行調制，

所述干涉光學系統中生成的干涉光為2束，該2束干涉光由電流差動式光檢測器檢測。