[發明專利]石墨烯基導電珠光顏料及其制備方法有效
| 申請號: | 201410520211.8 | 申請日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN104392767B | 公開(公告)日: | 2017-05-03 |
| 發明(設計)人: | 王焱;孫靜;羅建強;劉苗苗 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | H01B1/18 | 分類號: | H01B1/18;C09C1/40;C09C3/06 |
| 代理公司: | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙)31261 | 代理人: | 曹芳玲,鄭優麗 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 導電 珠光顏料 及其 制備 方法 | ||
1.一種石墨烯基珠光顏料復合材料,其特征在于,所述復合材料包括珠光顏料、和包覆于珠光顏料表面石墨烯,所述石墨烯的厚度為0.3-100nm,所述復合材料中石墨烯的質量百分含量為0.01-5%,所述復合材料中珠光顏料包括絕緣基底層和氧化物層,所述氧化物層為金屬氧化物層或類金屬氧化物層,所述絕緣基底層包括云母、鋁片、玻璃片的至少一種,所述金屬氧化物層包括二氧化鈦、三氧化二鐵、四氧化三鐵、二氧化錫的至少一種,所述類金屬氧化物層包括二氧化硅,
所述石墨烯由化學剝離法制備的氧化石墨包覆于珠光顏料后經氣相法還原制得,其中氣氛為氬氣氣氛,溫度為300~800℃,煅燒時間為0.5~10小時。
2.根據權利要求1所述石墨烯基珠光顏料復合材料,其特征在于,所述復合材料的電阻率小于105Ω·cm。
3.根據權利要求2所述石墨烯基珠光顏料復合材料,其特征在于,所述復合材料的電阻率為10~104Ω·cm。
4.根據權利要求1所述的石墨烯基珠光顏料復合材料,其特征在于,所述絕緣基底層的直徑為10-300μm,厚度為50-500nm,所述氧化物層的直徑為10-300μm,厚度為0.01-1μm。
5.一種權利要求1至4中任一項所述的石墨烯基珠光顏料復合材料的制備方法,其特征在于,包括:
(a)化學剝離法制備氧化石墨溶液;
(b)配制珠光顏料分散液;
(c)混合氧化石墨溶液和珠光顏料分散溶液,所得混合液于20~100℃加熱攪拌1小時~1周以制備氧化石墨基珠光顏料;
(d)利用所述氣相法還原氧化石墨基珠光顏料制得石墨烯基珠光顏料。
6.根據權利要求5所述的制備方法,其特征在于,在步驟(a)中:所述氧化石墨溶液中氧化石墨烯的質量百分含量為0.1-20%,溶劑為水或有機溶劑,pH為0~11,所述有機溶劑為甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、苯、甲苯中的至少一種。
7.根據權利要求5所述的制備方法,其特征在于,在步驟(b)中:所述珠光顏料分散液中珠光顏料的質量百分含量為0.1-20%,溶劑為水或有機溶劑,pH為0~11,所述有機溶劑為甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、苯、甲苯中的至少一種。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,在步驟(b)中,所述珠光顏料分散液含有0.1-5wt%的分散劑。
9.根據權利要求5-8中任一項所述的制備方法,其特征在于,在步驟(b)中,所述珠光顏料是以所述絕緣基底層為基底,利用金屬鹽水解技術包覆所述氧化物層制備得到的。
10.根據權利要求5-8中任一項所述的制備方法,其特征在于,在步驟(c)中,所述混合液中所述氧化石墨和所述珠光顏料的質量比為1:(20-100), pH為0.1~7。
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