[發明專利]一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝

在審

• 申請號: 201410518095.6
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN104328383A
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 潘文祥
• 申請（專利權）人: 惠安縣高智模具技術服務有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝，其特征在于，包括以下步驟：a、通過磁控濺射鍍膜方式在模仁本體上鍍上一層50～100納米的鈦-硅薄膜層，該磁控濺射鍍膜方式包括以下子步驟：a1、采用沈陽科學儀器股份有限公司制造的FJL560?型高真空多功能磁控濺射鍍膜機,?使用直徑為60?mm,?厚度為3?mm,?純度為5?N?的鈦靶,?基片為40?mm×20?mm×2?mm?的SiO2?薄片，a2、基片鍍膜前先用丙酮清洗,?然后用超聲波清洗,?最后用去離子水沖洗風干，a3、在沉積薄膜之前,?鈦靶用Ar?離子轟擊預濺射5?分鐘,?待濺射穩定后再移開基片擋板開始薄膜的沉積；b、通過非平衡磁控濺射方法在鈦-硅薄膜層上覆蓋一層鈦-硅-氮薄膜層；c、通過非平衡磁控濺射方法在鈦-硅-氮薄膜層上覆蓋一層鈦-鋁-硅-氮薄膜層。

2.如權利要求1所述一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝，其特征在于：所述鈦-硅-氮薄膜層的厚度為100～300納米。

3.如權利要求2所述一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝，其特征在于：所述鈦-鋁-硅-氮薄膜層的厚度為300～500納米。

4.如權利要求3所述一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝，其特征在于，所述非平衡磁控濺射方法選擇的工藝參數范圍為：選取80瓦～150瓦低功率；選取5×10?-3?托～8×10?-3?托的工作壓力。

5.如權利要求4所述一種玻璃模具的專用模仁的制備工藝，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜方式選擇的工藝參數范圍為:?Ar?氣流量20?sccm；直流電源功率80?W；濺射氣壓1Pa；?靶基距70?mm。