[發明專利]發光裝置、光源系統和投影系統

有效

• 申請號: 201410514286.5
• 申請日: 2014-09-29
• 公開（公告）號: CN105527787B
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 楊佳翼;胡飛
• 申請（專利權）人: 深圳光峰科技股份有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

1.一種發光裝置，其特征在于，包括：

位于激發光的光路上且均勻化所述激發光的第一勻光部件；

吸收均勻化后的所述激發光并產生受激光的熒光粉層；

位于所述受激光的光路上且均勻化所述受激光的第二勻光部件，所述第一勻光部件和第二勻光部件均采用高導熱和高透過率的材質；

其中，所述第一勻光部件包括：第一入光面，第一出光面，與所述第一入光面相鄰的第一側面和第二側面；所述第二勻光部件包括：第二入光面、第二出光面，與所述第二入光面相鄰的第三側面和第四側面；所述第一側面和/或第二側面以及所述第三側面和/或第四側面的外側具有金屬反射膜；所述熒光粉層粘附于所述第一出光面和第二入光面，所述第一勻光部件和所述第二勻光部件相對于所述熒光粉層對稱設置，所述熒光粉層將所述第一勻光部件和所述第二勻光部件固定在一起，從而將第一勻光部件、熒光粉層和第二勻光部件連接成一個整體。

2.根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，所述第一出光面的面積小于或等于所述第一入光面的面積；所述第二入光面的面積小于或等于所述第二出光面的面積。

3.根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，所述金屬反射膜覆蓋所述熒光粉層的側面。

4.根據權利要求3所述的發光裝置，其特征在于，所述第一側面、第二側面、第三側面和第四側面的金屬反射膜的外側還具有散熱器。

5.根據權利要求1至4任一項所述的發光裝置，其特征在于，所述第一勻光部件的第一入光面具有透過所述激發光反射其他光的介質膜。

6.根據權利要求5所述的發光裝置，其特征在于，所述第二勻光部件的第二出光面具有單色的介質膜或增透膜。

7.根據權利要求5所述的發光裝置，其特征在于，所述第二勻光部件的第二出光面具有收集裝置。

8.根據權利要求5所述的發光裝置，其特征在于，還包括：

位于第二出光面的修色片，所述修色片包括至少一個透過特定波長范圍光線的濾光區域。

9.根據權利要求8所述的發光裝置，其特征在于，當所述修色片包括至少兩個所述濾光區域時，不同的濾光區域透過不同波長范圍的光線，且所述發光裝置還包括與所述修色片相連且驅動所述濾光區域依次位于所述受激光的光路上的驅動裝置。

10.根據權利要求6至9任一項所述的發光裝置，其特征在于，所述第一勻光部件和/或所述第二勻光部件為藍寶石材質。

11.一種光源系統，其特征在于，包括：

發射激發光的至少一個光源；

一個或多個發光裝置，所述發光裝置為如權利要求1-10任一項所述的發光裝置。

12.一種投影系統，其特征在于，包括權利要求11所述的光源系統。