[發(fā)明專利]一種信息處理方法及電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410510801.2
• 申請(qǐng)日: 2014-09-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104317539A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-01-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許奔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 聯(lián)想（北京）有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/14
• 分類號(hào): G06F3/14
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 白瑞強(qiáng);姚開(kāi)麗

1.一種信息處理方法，應(yīng)用于電子設(shè)備中，所述電子設(shè)備包括顯示單元，所述顯示單元能夠在外力作用下發(fā)生形變；所述顯示單元具有第一形態(tài)和第二形態(tài)；當(dāng)所述顯示單元處于第一形態(tài)時(shí)，所述顯示單元的顯示區(qū)域位于同一平面上；當(dāng)所述顯示單元在外力作用下發(fā)生形變以使得所述顯示單元切換至所述第二形態(tài)時(shí)，所述顯示單元的顯示區(qū)域形成至少兩個(gè)子顯示區(qū)域，且所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域分別位于不同平面上；所述方法包括：

當(dāng)所述顯示單元處于所述第一形態(tài)時(shí)，控制所述顯示單元的顯示區(qū)域輸出第一顯示內(nèi)容；

檢測(cè)所述顯示單元從所述第一形態(tài)切換至所述第二形態(tài)時(shí)，處理所述第一顯示內(nèi)容生成用于所述顯示單元的所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容，以使所述第一顯示內(nèi)容與所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容相關(guān)聯(lián)；

控制所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域分別顯示所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理所述第一顯示內(nèi)容生成用于所述顯示單元的至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容，包括：

將所述第一顯示內(nèi)容分割為至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容；

將所述至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容分別生成用于所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述將所述第一顯示內(nèi)容分割為至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容，包括：

分析所述第一顯示內(nèi)容，當(dāng)所述第一顯示內(nèi)容包括至少兩種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容時(shí)，從所述第一顯示內(nèi)容中分別提取出包括所述至少兩種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容作為所述至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述處理所述第一顯示內(nèi)容生成用于所述顯示單元的至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的第二顯示內(nèi)容，包括：

分析所述第一顯示內(nèi)容，當(dāng)所述第一顯示內(nèi)容僅包括一種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容時(shí)，將所述第一顯示內(nèi)容直接分割為至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述顯示單元的四周設(shè)置有多個(gè)重力感應(yīng)單元；所述檢測(cè)所述顯示單元從所述第一形態(tài)切換至所述第二形態(tài)，包括：

通過(guò)所述多個(gè)重力感應(yīng)單元檢測(cè)到傾斜角度，獲得多個(gè)第一檢測(cè)結(jié)果；

基于所述多個(gè)第一檢測(cè)結(jié)果確定所述多個(gè)重力感應(yīng)單元檢測(cè)到的傾斜角度不相同時(shí)，確定所述顯示單元從所述第一形態(tài)切換至所述第二形態(tài)。

6.一種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括顯示單元，所述顯示單元能夠在外力作用下發(fā)生形變；所述顯示單元具有第一形態(tài)和第二形態(tài)；當(dāng)所述顯示單元處于第一形態(tài)時(shí)，所述顯示單元的顯示區(qū)域位于同一平面上；當(dāng)所述顯示單元在外力作用下發(fā)生形變以使得所述顯示單元切換至所述第二形態(tài)時(shí)，所述顯示單元的顯示區(qū)域形成至少兩個(gè)子顯示區(qū)域，且所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域分別位于不同平面上；所述電子設(shè)備還包括：控制單元、檢測(cè)單元和處理單元；其中，

所述控制單元，用于當(dāng)所述顯示單元處于所述第一形態(tài)時(shí)，控制所述顯示單元的顯示區(qū)域輸出第一顯示內(nèi)容；還用于控制所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示所述處理單元生成的所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容；

所述檢測(cè)單元，用于檢測(cè)所述顯示單元的形態(tài)，獲得檢測(cè)結(jié)果；

所述處理單元，用于當(dāng)所述檢測(cè)單元獲得的檢測(cè)結(jié)果為所述顯示單元從所述第一形態(tài)切換至所述第二形態(tài)時(shí)，處理所述第一顯示內(nèi)容生成用于所述顯示單元的所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容；以使所述第一顯示內(nèi)容與所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容相關(guān)聯(lián)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述處理單元，用于將所述第一顯示內(nèi)容分割為至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容；將所述至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容分別生成用于所述至少兩個(gè)子顯示區(qū)域顯示的所述至少兩個(gè)第二顯示內(nèi)容。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述處理單元，用于分析所述第一顯示內(nèi)容，當(dāng)所述第一顯示內(nèi)容包括至少兩種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容時(shí)，從所述第一顯示內(nèi)容中分別提取出包括所述至少兩種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容作為所述至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述處理單元，用于分析所述第一顯示內(nèi)容，當(dāng)所述第一顯示內(nèi)容僅包括一種屬性參數(shù)的特定內(nèi)容時(shí)，將所述第一顯示內(nèi)容直接分割為至少兩個(gè)第一子顯示內(nèi)容。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)單元包括多個(gè)重力感應(yīng)單元；所述多個(gè)重力感應(yīng)單元設(shè)置在所述顯示單元的四周；

所述檢測(cè)單元，用于通過(guò)所述多個(gè)重力感應(yīng)單元檢測(cè)傾斜角度，獲得多個(gè)第一檢測(cè)結(jié)果；基于所述多個(gè)第一檢測(cè)結(jié)果，當(dāng)所述多個(gè)重力感應(yīng)單元檢測(cè)到的傾斜角度不相同時(shí)，確定所述顯示單元從所述第一形態(tài)切換至所述第二形態(tài)。