[發明專利]一種微機電系統運動傳感器的制備方法在審
| 申請號： | 201410508390.3 | 申請日： | 2014-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN105523520A | 公開（公告）日： | 2016-04-27 |
| 發明（設計）人： | 余暉俊;沈文江;李鵬 | 申請（專利權）人： | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人： | 孫偉峰 |
| 地址： | 215123 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微機 系統 運動 傳感器 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種微機電系統運動傳感器的制備方法，包括釋放工藝，其特征在于， 所述釋放工藝的具體步驟包括：在形成有頂金屬電極的硅片上進行光刻工序， 用于獲得與梳齒電極和質量塊對應的光刻圖形；
再利用深硅刻蝕工序將所述光刻圖形轉移至所述硅片上，最后去除具有所 述光刻圖形的光刻膠。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述釋放工藝之前還包 括如下步驟：
步驟一：提供一正面刻蝕有圖案的硅片，令所述硅片正面與一襯底進行鍵 合；
步驟二：在所述硅片背面進行硅片厚度加工；
步驟三：在所述步驟二獲得硅片背面沉積金屬層，并利用光刻工序刻蝕所 述金屬層，獲得形成在硅片上的頂金屬電極。
3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述步驟二的厚度加工 包括：打磨和拋光。
4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬層是通過磁控 濺射法沉積形成的。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所，未經中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410508390.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
