[發(fā)明專利]曝光裝置及離焦傾斜誤差補償方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410508363.6
• 申請日: 2014-09-28
• 公開（公告）號: CN105527795B
• 公開（公告）日: 2018-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳飛彪;周暢;陳躍飛;程琦;刁雷;齊景超
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

本發(fā)明提供了一種曝光裝置及離焦傾斜誤差補償方法中，通過在每個對準測量傳感器都設(shè)置有一個與其對應(yīng)的調(diào)焦測量傳感器，并且每個對準測量傳感器與其所對應(yīng)的調(diào)焦測量傳感器在第一方向上的坐標相同，使得對準測量傳感器與調(diào)焦測量傳感器兩者位于同一條直線上，此時調(diào)焦測量信息與對準測量信息可共同表征對準標記，以便對對準測量信息存在誤差時進行修正，完成離焦傾斜誤差的補償，極大的提高了對準精度，提高產(chǎn)品良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種曝光裝置及離焦傾斜誤差補償方法。

背景技術(shù)

隨著液晶顯示尺寸的不斷地增大，分辨率不斷地提高，而投影光刻機作為液晶顯示行業(yè)核心的加工設(shè)備之一，面臨著眾多的技術(shù)難題。當(dāng)前，高世代的光刻機為了滿足液晶顯示尺寸及分辨率的需求，主要通過一下兩種方式：一是將投影物鏡做大，來滿足大尺寸玻璃基板的高產(chǎn)率需求，如日本Canon公司采用該種技術(shù)來實現(xiàn)高世代的投影光刻；一是采用拼接式的多物鏡方式，來達成大尺寸玻璃基板的高產(chǎn)率曝光，如日本Nikon公司，具體可參見名稱為曝光方法、曝光裝置及元件制造方法(CN1459671A)的專利。

請參照專利CN1459671A中曝光裝置的示意圖，該曝光裝置包括沿垂向依次分布的透明系統(tǒng)IL、掩模載物臺MST、投影光學(xué)系統(tǒng)PL、及感光基板P；其中所述掩模載物臺MST用于承載掩模M。該曝光裝置的工作原理，當(dāng)掩模M和感光基板P相對投影光學(xué)系統(tǒng)PL沿X軸方向同步移動時，通過在感光基板P上的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域?qū)Ω泄饣錚進行曝光，而在曝光之前為了保證線條和套刻的精度，必須進行對準測量和調(diào)焦測量。但是在對對準測量和調(diào)焦測量的過程中常常出現(xiàn)離焦傾斜誤差的問題，極大的降低了對準精度，影響制造的電子元件的良率。

為了解決上述問題，本領(lǐng)域技術(shù)人員一直在尋找解決的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光裝置及離焦傾斜誤差補償方法，通過合理的布置對準測量傳感器及調(diào)焦測量傳感器的位置，配合離焦傾斜誤差補償方法，將離焦量傾斜誤差進行合理補償，徹底解決離焦量傾斜誤差對對準精度造成的影響。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種曝光裝置及離焦傾斜誤差補償方法，所述曝光裝置包括：掩模承載臺、投影物鏡陣列以及基底承載臺，還包括：

若干對準測量傳感器，沿第一方向排列，用于探測基底上的對準標記來獲取基底的對準測量信息和對準測量傳感器的最佳測量平面；若干調(diào)焦測量傳感器，用于探測基底的調(diào)焦測量信息以及調(diào)焦測量傳感器的零平面，每個對準測量傳感器都有一個與其對應(yīng)的調(diào)焦測量傳感器，并且每個對準測量傳感器與其所對應(yīng)的調(diào)焦測量傳感器在第一方向上的坐標相同。

可選的，在所述的曝光裝置中，所述投影物鏡陣列分布于所述調(diào)焦測量傳感器及所述對準測量傳感器周圍。

可選的，在所述的曝光裝置中，所述掩模承載臺和所述基底承載臺沿第二方向同步移動時，所述掩模承載臺上的掩模和所述基底承載臺上的基底沿第二方向同步移動時，投影物鏡陣列對基底進行曝光，將掩模的圖像成在所述基底上，所述第一方向垂直于所述第二方向。

可選的，在所述的曝光裝置中，所述若干調(diào)焦測量傳感器平均分布于若干對準測量傳感器的兩側(cè)，或者所述若干調(diào)焦測量傳感器均位于若干對準測量傳感器的一側(cè)。

可選的，在所述的曝光裝置中，投影物鏡陣列中的每個投影物鏡分別對應(yīng)一個調(diào)焦測量傳感器和一個對準測量傳感器，每個投影物鏡與其所對應(yīng)的調(diào)焦測量傳感器和對準測量傳感器在第一方向上的坐標相同。

可選的，在所述的曝光裝置中，所述投影物鏡陣列平均分布于所述若干調(diào)焦測量傳感器和所述若干對準測量傳感器的兩側(cè)，或者所述投影物鏡陣列均位于若干調(diào)焦測量傳感器和所述若干對準測量傳感器的一側(cè)。

可選的，在所述的曝光裝置中，所述調(diào)焦測量傳感器、所述對準測量傳感器和所述對準標記的數(shù)量相同且均為三個以上。