[發(fā)明專利]一種壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410505826.3
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN104237696A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周軍;宋維爾;吳佳濱;盧棟;丁建永
• 申請（專利權(quán)）人: 南京中科神光科技有限公司
• 主分類號: G01R31/00
• 分類號: G01R31/00
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 張曉霞

1.一種壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置，其特征在于：包括邁克爾遜干涉儀、信號控制器、光電探測器和數(shù)據(jù)采集顯示系統(tǒng)；其中所述邁克爾遜干涉儀雙干涉臂分別為參考臂和測量臂，待檢測的壓電陶瓷緊固于所述測量臂中的移動反光鏡后，所述移動反光鏡隨所述壓電陶瓷形變在光路方向上發(fā)生位移；所述信號控制器向所述壓電陶瓷施加掃描電壓；所述邁克爾遜干涉儀干涉光出射至所述光電探測器；所述光電探測器探測干涉光選定點的光強并輸出信號至所述數(shù)據(jù)采集顯示系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置，其特征在于：所述邁克爾遜干涉儀包括單色光源、擴束鏡組件、分光鏡、參考反光鏡和移動反光鏡。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置，其特征在于：所述參考反光鏡設(shè)置在所述參考臂中，所述移動反光鏡設(shè)置在所述測量臂中。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置，其特征在于：所述干涉光出射光路依次設(shè)置偏轉(zhuǎn)反光鏡和小孔光闌，所述干涉光經(jīng)小孔光闌后射入所述光電探測器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測裝置，其特征在于：所述信號控制器向壓電陶瓷施加連續(xù)的掃描電壓信號。

6.一種壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：將邁克爾遜干涉儀中雙干涉臂之一作為測量臂，所述測量臂中設(shè)置移動反光鏡；將另一臂作為參考臂；

步驟2：將待檢測壓電陶瓷緊固于邁克爾遜干涉儀中的移動反光鏡后，使移動反光鏡可隨所述壓電陶瓷形變在光路方向上發(fā)生位移；

步驟3：向所述壓電陶瓷施加掃描電壓，使所述壓電陶瓷隨掃描電壓發(fā)生形變；

步驟4：所述邁克爾遜干涉儀使用單色光源，選定輸出的干涉條紋上的一點，探測并采集該點光強隨所述掃描電壓的變化；

步驟5：改變所述掃描電壓的頻率，得到不同掃描頻率下的待檢測壓電陶瓷頻率響應(yīng)特性曲線。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測方法，其特征在于：所述參考臂與測量臂的長度均小于所述單色光源的相干長度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測方法，其特征在于：所述邁克爾遜干涉儀輸出的干涉光使用小孔光闌成像。

9.根據(jù)權(quán)利要求6至8任一項所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測方法，其特征在于：所述步驟3中向壓電陶瓷兩端分別施加掃描電壓。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的壓電陶瓷動態(tài)頻率響應(yīng)的光學(xué)檢測方法，其特征在于：所述壓電陶瓷兩端的掃描電壓為不同波形。