[發明專利]用于EB 或EUV 平版印刷的化學放大正性抗蝕劑組合物和圖案化方法

有效

• 申請號: 201410505727.5
• 申請日: 2011-02-16
• 公開（公告）號: CN104330955B
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 增永惠一;渡邊聰;田中啟順;土門大將
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/039
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 任宗華

1.一種圖案形成方法，包括以下步驟：將化學放大正性抗蝕劑組合物施涂在可加工基材上形成抗蝕劑膜，使該抗蝕劑膜以圖案化方式進行電子束或遠紫外線輻射曝光，和用堿性顯影劑使已曝光的薄膜顯影，形成抗蝕劑圖案，其中用于電子束或遠紫外線平版印刷的該化學放大正性抗蝕劑組合物包括：

組分(A)聚合物或聚合物共混物，至少一種聚合物具有被酸去保護的保護基，其使得聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于堿性顯影劑，但是在酸的作用下變為可溶于其中，

組分(B)能夠產生酸的酸產生劑，

組分(C)用于抑制酸作用的堿性化合物，和

組分(D)溶劑，其中

作為組分(C)的堿性化合物為包括帶有側鏈的重復單元的聚合物，并且構成作為組分(A)的至少一種聚合物，所述側鏈具有仲胺或叔胺結構作為堿性活性位點，和

該組合物可以任選進一步包括以每摩爾作為組分(B)的酸產生劑計，用量為至多1/20摩爾的分子量為至多1,000的化合物作為不同于聚合物形式的堿性化合物的組分(C),

其中所述帶有具有仲胺或叔胺結構的側鏈的重復單元為在側鏈連接的主鏈碳和胺結構中的氮原子之間具有不包括在環結構中的至少兩個連續原子的原子鍵的重復單元,

其中作為組分(C)的堿性化合物為包括通式(1)和(2)的重復單元的聚合物：

其中A為單鍵或可以被醚氧原子分隔的C1-C10亞烷基，

R1各自獨立地為氫或甲基，

R2各自獨立地為C1-C6烷基，

B1、B2和B3各自獨立地為單鍵，或為選自可以包含醚氧原子的直鏈或支化C1-C10亞烷基、可以被醚氧原子分隔的二價C5-C10脂環基、可以被醚氧原子分隔的二價C6-C14芳基，以及包括上述至少一種組合的鍵基，

Z1和Z2各自獨立地為單鍵、-CO-O-或-O-CO-，條件是當B1、B2和B3包含醚氧原子時，Z1和Z2不形成-O-O-結構，以及當Z2為-CO-O-或-O-CO-時，B3不為單鍵，

R3和R4各自獨立地為氫或可以包含雜原子的一價C1-C10烴基，條件是R3和R4不同時為氫，R3和R4可以鍵合在一起與其連接的氮原子成環，當它們成環時，R3和R4為可以包含雜原子的二價C2-C12烴基，

B3可以與R3或R4鍵合在一起與其連接的氮原子成環，在這種情況下，含氮環為5至7-元環，其排除孤對氮原子賦予含氮環芳香性的結構環，以及含氮環不是芳族環，

a為0至4的整數，b為1至5的正整數，p和q各自獨立地為0或1，t為0至2的整數，條件是當q＝0時，與主鏈碳鍵合的B1中的原子為醚氧原子或形成芳族環的碳原子，以及當q＝0和Z1和Z2為單鍵時，B1、B2和B3的一個或更多個應包含至少兩個來源于亞烷基或芳基的連續碳原子。