[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及裝置制造方法

有效

• 申請號: 201410503036.1
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN104516213B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 竹中務;三島和彥
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 金曉

1.一種曝光裝置，其特征在于，該曝光裝置通過具有第一投影倍率的第一投影光學系統將在原件上形成的圖案曝光到基板上作為第一圖案形成區域，該曝光裝置包括：

原件保持單元，被配置為保持所述原件；

基板保持單元，被配置為保持所述基板；及

控制器，被配置為控制原件保持單元和基板保持單元的掃描，從而將多個第一圖案形成區域曝光到通過具有不同于第一投影倍率的第二投影倍率的第二投影光學系統預先形成在所述基板上的多個第二圖案形成區域上，其中所述多個第一圖案形成區域疊加在所述多個第二圖案形成區域上，

其中所述控制器被配置為：當在原件保持單元和基板保持單元的單次掃描中將所述多個第一圖案形成區域掃描曝光到所述多個第二圖案形成區域上的時候，基于形成在所述基板上的所述多個第二圖案形成區域的形狀或者形成在原件上的圖案的形狀，針對所述多個第二圖案形成區域中的每個第二圖案形成區域改變原件保持單元的操作，

其中，改變原件保持單元的操作包括改變以下中的至少一個：掃描速度，掃描方向，掃描位置，以及相對于與第一投影光學系統的光軸方向垂直的平面內的掃描方向的角度，其中所述第一投影光學系統被配置為將所述多個第一圖案形成區域曝光到所述多個第二圖案形成區域上。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，其中所述多個第二圖案形成區域的形狀包括所述多個第二圖案形成區域的布置。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，其中，所述控制器被配置為：基于所述多個第一圖案形成區域和所述多個第二圖案形成區域之間的倍率誤差或旋轉誤差，改變原件保持單元的操作。

4.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，其中，所述控制器被配置為：在圖案制造誤差發生超出允許范圍的情況下，基于形成在原件上的圖案的形狀改變原件保持單元的操作。

5.如權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，還包括：

測量裝置，被配置為測量所述基板上的所述多個第二圖案形成區域的形狀或布置。

6.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括：

位置測量裝置，被配置為測量標志的位置，所述標志被設置在原件上以與多個圖案在所述原件上形成的位置對準，

其中所述控制器被配置為基于由位置測量裝置測出的標志的位置確定圖案的形狀或布置。

7.一種曝光方法，其特征在于，該曝光方法用于以第一投影倍率將形成在原件上的圖案曝光到基板上作為第一圖案形成區域，該曝光方法包括：

在掃描被配置為保持原件的原件保持單元和被配置為保持基板的基板保持單元的時候，將多個第一圖案形成區域曝光到以不同于第一投影倍率的第二投影倍率預先形成在所述基板上的多個第二圖案形成區域上，其中所述多個第一圖案形成區域疊加在所述多個第二圖案形成區域上，

其中，當在原件保持單元和基板保持單元的單次掃描中將所述多個第一圖案形成區域掃描曝光到所述多個第二圖案形成區域上的時候，基于形成在所述基板上的所述多個第二圖案形成區域的形狀或者形成在原件上的圖案的形狀，在曝光中改變原件保持單元的操作，

其中，改變原件保持單元的操作包括改變以下中的至少一個：掃描速度，掃描方向，掃描位置，以及相對于與被配置為將所述多個第一圖案形成區域曝光到所述多個第二圖案形成區域上的投影光學系統的光軸方向垂直的平面內的掃描方向的角度。