[發明專利]一種基于光柵泰伯效應的檢焦方法

有效

• 申請號: 201410500277.0
• 申請日: 2014-09-25
• 公開（公告）號: CN104238284A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 朱咸昌;胡松;趙立新
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 楊學明;顧煒

1.一種基于光柵泰伯效應的檢焦方法，其特征在于：檢測系統由光源(1)、光束準直擴束系統(2)、第一透鏡組(Lens_1)和第二透鏡組(Lens_2)組成的4f光學系統、被測硅片(3)、衍射光柵(4)和CCD探測器(5)組成；第一透鏡組(Lens_1)和第二透鏡組(Lens_2)組成的4f光學系統：當被測硅片(3)位于4f系統的共焦面上時，準直擴束系統(2)的出射平面波前經過4f光學系統后仍為平面波前，并通過衍射光柵(4)形成其泰伯自成像；當被測硅片(3)離焦時，光束準直擴束系統(2)的出射平面波前經過4f光學系統后為球面波前，衍射光柵(4)的泰伯自成像的周期和位相產生差異，通過CCD探測器(5)完成平面和球面波前的泰伯自成像測量，即可完成硅片的檢焦測量。

2.根據權利要求1所述的檢焦方法，其特征在于：當被測硅片(3)位于4f光學系統的共焦位置時，平面波前通過衍射光柵(4)成像，根據光柵衍射原理，平面波前A入射光柵時，CCD探測器(5)中形成周期性的干涉條紋即泰伯自成像周期與衍射光柵(4)周期p相同；當被測硅片(3)離焦時，CCD探測器(5)中產生由球面波前產生的干涉條紋，分析其周期為：

ps=L-zLp=p±szf2p]]>

其中衍射光柵(4)位于第二透鏡組(Lens_2)的后焦面位置，L為球面波前會聚中心與光柵距離，s為硅片離焦量，f為第二透鏡組(Lens_2)的焦距，通過測量衍射光柵(4)的泰伯自成像周期其相位差，即可完成被測硅片(3)的高精度檢焦。