[發明專利]一種用于聚光系統的非成像二次反射鏡有效
| 申請號: | 201410495798.1 | 申請日: | 2014-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN104297826B | 公開(公告)日: | 2017-01-18 |
| 發明(設計)人: | 程強;周正;柴家樂;宋金霖;吳昊 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G02B5/10 | 分類號: | G02B5/10 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心42201 | 代理人: | 李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 聚光 系統 成像 二次 反射 | ||
1.一種用于聚光系統的非成像二次反射鏡,其通過確定二次反射鏡的母線參數,使得其能夠將入射到一次拋物面的平行于軸線的光反射后匯聚到接收器上并形成均勻分布的圓斑,從而實現聚光系統接收器的暗區消除并使接收器獲得均勻的熱流分布,其特征在于,該非成像二次反射鏡為凸型的非成像二次反射鏡或凹型的非成像二次反射鏡,其中,
所述凸型的非成像二次反射鏡設置在聚光系統的初級拋物面聚光器的焦點的上方,其曲面母線方程為:
其中,
所述凹型的非成像二次反射鏡設置在聚光系統的初級拋物面聚光器的焦點的下方,其曲面母線方程為:
式中,
上述各式中,L是初級拋物面的焦距,R是拋物面的開口半徑,r是拋物面底部開口半徑,a為接收器半徑。
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