[發明專利]液晶顯示面板及其制造方法

有效

• 申請號: 201410495732.2
• 申請日: 2014-09-24
• 公開（公告）號: CN104267518A
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 鄭華
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1335;G03F7/20
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

在基體上涂布一光阻層；

采用第一光罩和第二光罩對所述光阻層進行曝光，以在所述基體上形成具有不同寬度的黑矩陣，其中沿所述液晶顯示面板的中間區域朝向兩側區域的方向，所述黑矩陣的寬度逐漸增大；

移除未被曝光的所述光阻層；

其中，所述第一光罩具有與所述液晶顯示面板的相鄰兩個像素電極之間的邊界區域相對應的多個第一透光區，所述第二光罩具有與所述多個第一透光區相對應的多個第二透光區，且沿所述中間區域朝向所述兩側區域的方向，所述多個第二透光區的透光率逐漸增大。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述黑矩陣的高度相同且對應位于所述第二透光區內，每一所述第二透光區的寬度大于對應的所述第一透光區的寬度。

3.根據權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述多個第一透光區的寬度相同，所述多個第二透光區的寬度相同。

4.根據權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述第一光罩設置于所述第二光罩和所述光阻層之間，所述第二光罩的面積大于或等于所述液晶顯示面板的面積。

5.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述曝光時具有第一曝光能量，所述第一曝光能量小于所述第二曝光能量，所述第二曝光能量為采用所述第一光罩對所述光阻層進行曝光時形成的具有寬度相等的黑矩陣時的曝光能量。

6.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光阻層的制造材質包括負性光阻材料。

7.根據權利要求6所述的制造方法，其特征在于，采用顯影技術移除所述未被曝光的光阻層。

8.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述基體對應用于形成所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。

9.一種液晶顯示面板，其特征在于，所述液晶顯示面板包括一基體以及設置于所述基體上的具有不同寬度的黑矩陣，其中，沿所述液晶顯示面板的中間區域朝向所述液晶顯示面板的兩側區域的方向，所述黑矩陣的寬度逐漸增大。

10.根據權利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述基體為所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。