[發明專利]光學成像系統有效
| 申請號: | 201410491551.2 | 申請日: | 2014-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN104516097B | 公開(公告)日: | 2018-07-17 |
| 發明(設計)人: | F.默茨;A.霍格勒 | 申請(專利權)人: | 卡爾蔡司醫療技術股份公司 |
| 主分類號: | G02B21/24 | 分類號: | G02B21/24 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 邱軍 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 阿貝數 光學成像系統 光學單元 透鏡系統 折射力 主物鏡 波長 透鏡系統設計 成像對比度 平面的 主波長 成像 | ||
1.一種用于產生物平面的像的光學成像系統(1),包括透鏡系統,所述透鏡系統包括主物鏡(20)和處于所述主物鏡(20)與所述物平面之間的縮小光學單元,并且所述透鏡系統沿光軸(23)定向,
其中,所述縮小光學單元包括折射力為正的第一透鏡(22)和折射力為負的第二透鏡(21),
其中,通過所述透鏡系統限定物側的第一主平面(H)和像側的第二主平面(H′),
其中,所述光學成像系統(1)限定出觀察光路(30、40),所述觀察光路被引導通過所述透鏡系統,使得所述觀察光路(30、40)在所述第一主平面(H)和所述第二主平面(H′)中分別與所述透鏡系統的光軸(23)間隔距離B,
其特征在于,所述第一透鏡(22)由具有第一阿貝數的第一材料制造,并且所述第二透鏡(21)由具有第二阿貝數的第二材料制造,其中,所述第一阿貝數大于所述第二阿貝數,
并且所述透鏡系統設計為使得對于λ為480nm≤λ≤660nm的波長范圍和主波長e=546nm的情況滿足以下關系:
其中:
fe=主波長e關于所述第一主平面(H)的物側焦距;
fλ=波長λ關于所述第一主平面(H)的物側焦距;
fe′=主波長e關于所述第二主平面(H′)的像側焦距;
0.5′的單位為弧分。
2.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一材料和第二材料選擇為使得所述第一阿貝數與第二阿貝數的差在16至22之間。
3.如權利要求1或2所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一材料和第二材料選擇為使得所述第一材料的第一折射率大于1.6,并且所述第二材料的第二折射率大于1.6。
4.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一透鏡(22)固定地布置,而所述第二透鏡(21)布置為能夠沿所述光軸的方向移動。
5.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述第二透鏡(21)固定地布置,而所述第一透鏡(22)布置為能夠沿所述光軸的方向移動。
6.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述縮小光學單元能夠被旋轉到所述主物鏡(20)之前的光路中。
7.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,在所述觀察光路中,在所述縮小光學單元之前設有用于產生中間像(10)的另一光學元件(3),并且所述光學成像系統(1)聚焦到所述中間像(10)上。
8.如權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述光學成像系統(1)設計為立體顯微鏡,并且包括第一觀察光路(30)和第二觀察光路(40),其中,所述第一和第二觀察光路(30、40)在所述第一主平面(H)和所述第二主平面(H′)中分別與所述透鏡系統的光軸間隔距離B。
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