[發(fā)明專利]顯示心形和箭頭形圖案的十邊形鉆石有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410490834.5 | 申請(qǐng)日： | 2014-09-23 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN104510106B | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 羅尼·里德列維奇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 全球鉆石商標(biāo)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | A44C17/00 | 分類號(hào)： | A44C17/00 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人： | 張敬強(qiáng),丁文蘊(yùn) |
| 地址： | 加拿大*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示 箭頭 圖案 十邊形 鉆石 | ||
1.一種十邊形鉆石，其適用于在暴露于光線下時(shí)顯示相當(dāng)于在完美對(duì)稱切割的圓形鉆石中固有顯示的心形和箭頭形圖案的心形和箭頭形圖案，其包括：十個(gè)主冠部刻面，其圍繞臺(tái)刻面對(duì)稱布置；二十個(gè)星形刻面，其中在每個(gè)主冠部刻面上打磨兩個(gè)星形刻面；十個(gè)主亭部刻面；二十個(gè)冠部半刻面；二十個(gè)亭部半刻面；二十個(gè)副亭部半刻面；十個(gè)副亭部刻面；以及十個(gè)主腰部刻面，其中副亭部刻面分別位于副亭部半刻面和主亭部刻面之間，使得主亭部刻面從鉆石的公共底尖點(diǎn)僅延伸至副亭部刻面，并且其中腰部刻面被打磨為提供相對(duì)于彼此的輕微不均勻的腰部厚度，每個(gè)腰部刻面都相對(duì)于彼此呈給定角度以形成鉆石的十邊形，并且其中，所述副亭部刻面被打磨為處于48°至67°之間的角度范圍內(nèi)，并且所述副亭部半刻面被打磨為處于50°至70°的角度范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的十邊形鉆石，其中，所述腰部刻面被打磨為十個(gè)相同尺寸的腰部刻面，其相對(duì)于每個(gè)相鄰側(cè)的腰部刻面形成36°的角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的十邊形鉆石，其中，所述主冠部刻面被打磨為處于33.8°至35.2°之間的角度范圍內(nèi)，并且處于0.4°的角度公差內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的十邊形鉆石，其中，所述十個(gè)主亭部刻面被打磨為在40.6°至41.1°之間的角度范圍內(nèi)與所述主冠部刻面和腰部刻面對(duì)齊。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的十邊形鉆石，其中，所述十個(gè)主亭部刻面從位于所述鉆石中心或底尖的公共點(diǎn)伸出。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的十邊形鉆石，其進(jìn)一步包括十二個(gè)三角形的亭部半刻面，其中該亭部半刻面中的每?jī)蓚€(gè)都以對(duì)稱布置被形成在每個(gè)主亭部刻面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的十邊形鉆石，其中，每個(gè)亭部半刻面都被打磨為處于41.5°與42.2°之間的范圍內(nèi)，并且所述冠部半刻面的角度范圍應(yīng)處于37.0°至40.8°之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的十邊形鉆石，其中，所述亭部半刻面與所述冠部半刻面之間的角度公差不超過(guò)0.8°。
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