[發(fā)明專利]陣列基板及其制作方法、顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410490188.2 | 申請日： | 2014-09-23 |
| 公開（公告）號： | CN104298018A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 向西;姜妮;馮遠明 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1343 | 分類號： | G02F1/1343;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陳源 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陣列 及其 制作方法 顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板，包括依次位于襯底基板上方的平坦層、第一電極層、絕緣層和第二電極層，所述第二電極層包括多個電極條，其特征在于，所述平坦層包括多個朝向所述第二電極層凸出的凸起，所述第一電極層的至少一部分形成在所述凸起上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，相鄰的所述電極條之間具有空隙，所述凸起的位置對應(yīng)于所述空隙的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起的高度小于或等于所述絕緣層與所述電極條的厚度之和。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起的寬度小于所述空隙的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起在垂直于所述襯底基板的方向上的截面為梯形、矩形、三角形和圓弧形中的一種。
6.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5中任意一項所述的陣列基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括與所述陣列基板對盒設(shè)置的對盒基板，以及填充在所述陣列基板和所述對盒基板之間的液晶，所述液晶為正性液晶或者負性液晶。
8.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
形成包括多個凸起的平坦層；
在所述平坦層上形成第一電極層；
在所述第一電極層上形成絕緣層；
在所述絕緣層上形成包括多個電極條的第二電極層；
其中，所述凸起朝向所述第二電極層凸出，所述第一電極層的至少一部分形成在所述凸起上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制作方法，其特征在于，相鄰的所述電極條之間具有空隙，所述凸起的位置對應(yīng)于所述空隙的位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的制作方法，其特征在于，使用半階色調(diào)掩膜板形成包括多個凸起的平坦層。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
