[發明專利]銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物

有效

• 申請號: 201410487573.1
• 申請日: 2014-09-22
• 公開（公告）號: CN104513981B
• 公開（公告）日: 2019-04-09
• 發明（設計）人: 李恩慶;殷熙天;金世訓;申孝燮
• 申請（專利權）人: 易安愛富科技有限公司
• 主分類號: C23F1/14
• 分類號: C23F1/14;C23F1/18;C23F1/26
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有

1.一種銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，相對于組合物的總重量，含有10至30重量％的過氧化氫；含有0.1至5重量％的蝕刻抑制劑，其選自分子內含有氧、硫及氮中至少一個以上的雜原子的單環式雜環化合物，具有所述單環式雜環和苯環縮合結構的復素環化合物及其混合物所構成的群；含有0.1至5重量％的螯合劑；含有0.1至5重量％的蝕刻添加劑，其為一種以上選自由無機酸、有機酸及其鹽構成群的化合物；含有0.01至2重量％的氟化物；含有0.01至2重量％的鉬膜或鉬合金膜的側蝕抑制劑；以及使組合物總重量達到100重量％的水；

其中，所述蝕刻液組合物用于鉬合金膜的側蝕抑制，所述側蝕抑制劑選自腺嘌呤、鳥嘌呤。

2.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻抑制劑選自由呋喃、噻吩、吡咯、惡唑、咪唑、吡唑、1,2,4-三氮唑、四唑、5-氨基四唑、甲基四唑、哌嗪、甲基哌嗪、羥乙基哌嗪、吡咯烷及四氧嘧啶、氧茚、苯并噻吩、吲哚、苯并咪唑、苯并吡唑、氨基四唑、甲基苯并三唑、氫甲基苯并三唑、羥甲基苯并三唑及其混合物所構成的群。

3.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述螯合劑是在分子內與氨基一起，含有羧酸基或磷酸基的化合物。

4.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述螯合劑選自由亞氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、氨基三亞甲基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二磷酸、乙二胺四甲撐磷酸、二亞乙基三胺五亞甲基磷酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸及甘氨酸及其混合物構成的群。

5.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述添加劑選自由無機酸、有機酸、以及其鹽和其混合物所構成的群；所述無機酸包括硫酸、硝酸、磷酸、鹽酸及氫氟酸，所述有機酸包括醋酸、甲酸、丁酸、檸檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡萄糖酸、甘氨酸和琥珀酸。

6.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述蝕刻添加劑選自由硫酸氫鉀、硫酸氫鈉、硫酸鈉、過硫酸鈉、硫酸鉀、過硫酸鉀、硫酸銨、過硫酸銨及其混合物構成的群中的硫酸鹽。

7.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述氟化物是離解出F^-或HF₂^-的化合物。

8.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述氟化物選自由氟化氫、氟化鈉、氟化鉀、氟化鋁、硼氟酸、氟化銨、氟化氫銨、氟化氫鈉、氟氫化鉀及氟硼酸銨及其混合物所構成的群。

9.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，所述水是電阻率為18MΩ·㎝以上的脫離子水。

10.根據權利要求1所述的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特征在于，還包括添加劑，所述添加劑選自由雙氧水穩定劑、蝕刻穩定劑、玻璃蝕刻抑制劑及其混合物所構成的群。