[發明專利]大面積無掩膜板快速曝光的裝置及其方法

在審

• 申請號: 201410487260.6
• 申請日: 2014-09-22
• 公開（公告）號: CN104199259A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 趙裕興;狄建科;益凱劼;趙黎龍
• 申請（專利權）人: 蘇州德龍激光股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/09
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 王玉國

1.大面積無掩膜板快速曝光的裝置，其特征在于：包含沿光路依次設置的光源(1)、準直鏡(3)、全反射鏡(4)和空間光調制器DMD(5)，空間光調制器DMD(5)的光路輸出端布置有全反鏡(6)，全反鏡(6)的光路輸出端銜接有雙遠心高速掃描系統(8)，雙遠心高速掃描系統(8)的光路輸出端正對于載物平臺(11)；所述空間光調制器DMD(5)、雙遠心高速掃描系統(8)、載物平臺(11)與運動控制系統(9)控制連接。

2.根據權利要求1所述的大面積無掩膜板快速曝光的裝置，其特征在于：所述光源(1)與準直鏡(3)之間光路設置有光閘(2)。

3.根據權利要求1所述的大面積無掩膜板快速曝光的裝置，其特征在于：所述光源(1)是光波長為266nm～450nm的單色LD光源。

4.根據權利要求1所述的大面積無掩膜板快速曝光的裝置，其特征在于：所述載物平臺(11)上設有基板，基板的材質為丙烯酸樹脂MMA樹脂材料或玻璃。

5.根據權利要求1所述的大面積無掩膜板快速曝光的裝置，其特征在于：所述空間光調制器DMD(5)的光路輸出端布置有吸收器(7)。

6.利用權利要求1所述裝置實現大面積無掩膜板快速曝光的方法，其特征在于：待加工工件(10)固定于載物平臺(11)上，光源(1)發出的單色光通過準直鏡(3)對光束進行同軸擴束，改善光束傳播的發散角，使光路準直；擴束后的光束到達全反射鏡(4)，光路改變方向，光束射進空間光調制器DMD(5)上；光束經空間光調制器DMD(5)進行圖形調制，調制出有圖形的光束，繼而輸出光束射向全反鏡(6)，輸出光束經全反鏡(6)進入雙遠心高速掃描系統(8)，經由雙遠心高速掃描系統(8)發出的光束射向位于載物平臺(11)上的待加工工件(10)，由雙遠心高速掃描系統(8)發出光聚焦在待加工工件(10)的表面，對待加工工件(10)的表面進行曝光處理。

7.根據權利要求6所述的大面積無掩膜板快速曝光的方法，其特征在于：所述光源(1)發出的單色光經光閘(2)控制開關光，光閘(2)控制光束后由準直鏡(3)對光束進行同軸擴束。

8.根據權利要求6所述的大面積無掩膜板快速曝光的方法，其特征在于：所述空間光調制器DMD(5)調制后無用的光被吸收器(7)吸收。

9.根據權利要求6所述的大面積無掩膜板快速曝光的方法，其特征在于：所述調制的光束進入雙遠心高速掃描系統(8)，繼而對加工工件表面掃描，掃描時，平臺聯動，運動控制系統(9)進行計算后，指令發往空間光調制器DMD(5)，根據平臺位置和掃描位置，對DMD調制圖形進行實時更新，從而進行全幅面快速掃描曝光。