[發明專利]用于氣流床氣化反應器的組合式急冷及清洗系統

有效

• 申請號: 201410480548.0
• 申請日: 2014-09-19
• 公開（公告）號: CN104449869B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: F.漢內曼;A.赫克洛茨;H.霍佩;T.尤斯特;M.興尼茨;D.施毛赫
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: C10J3/56
• 分類號: C10J3/56;C10J3/84
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 梁冰;宣力偉

1.粗制氣清洗系統，具有對氣流床氣化裝置中的顆粒的高分離度，所述氣流床氣化裝置用于將含灰的燃料借助含游離氧的氣化介質轉化為氫氣含量高的粗制氣，其中

- 氣化反應器（1）中的燃料在溫度為1200至1900℃并且過程壓力高達10MPa的情況下轉換成粗制氣和流態的熔渣，

- 所述粗制氣和流態的熔渣經由氣體及熔渣排出機構（3）轉移到布置在所述氣化反應器（1）下方的急冷器（5）中，

- 在所述急冷器（5）中，與所述氣體及熔渣排出機構（3）連接的中央管道（11、12）浸入到位于所述急冷器的下端部處的水池（7）中，

- 所述中央管道的上區段構造為被急冷水穿流的管棚（11），并且所述中央管道的下區段構造為平滑的管道（12），

- 在所述管棚（11）的區域內，將急冷水噴入到粗制氣體及熔渣流中，如此設計噴入的水量，使得粗制氣和液態熔渣被冷卻到熔渣的軟化溫度800℃以下，

- 在所述中央管道（12）的下端部處，所述熔渣被分離到所述水池（7）中，并且所述粗制氣在所述中央管道（12）之外的吹氣柱（8）中向上抬升，

- 所述粗制氣經由布置在所述急冷器的壓力罩中的粗制氣出口（27）離開所述急冷器，

- 所述粗制氣在所述水池（7）的表面和所述粗制氣出口（27）之間的路徑上被至少一個噴嘴環（26）噴急冷水。

2.按照權利要求1所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）基本上鐘形地構造為被急冷水穿流的管道的盤繞體，其中所述盤繞部相互之間氣密地焊接起來。

3.按照權利要求1所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）構造成被急冷水穿流的管道的多通路的盤繞體。

4.按照上述權利要求中任一項所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）在其內側上具有包層。

5.按照上述權利要求1至3中任一項所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）具有柱體成形的延長部，所述延長部與所述氣體及熔渣排出機構（3）重合并且在重合部位的內直徑上形成第一熔渣滴落檐（14）。

6.按照權利要求5所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）在過渡段（15）內錐形地擴大并且在所述過渡段（15）的小直徑處形成第二熔渣滴落檐（16）。

7.按照權利要求6所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，在所述管棚（11）中布置了噴嘴穿通部（17）用于容納穿透所述管棚的噴嘴，所述噴嘴用于將急冷水注入到所述粗制氣及熔渣流中。

8.按照權利要求7所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述噴嘴穿通部（17）布置在所述第一熔渣滴落檐（14）和第二熔渣滴落檐（16）之外。

9.按照權利要求7所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述噴嘴穿通部（17）經由兩個分別具有接頭（18）和（19）的管道區段接入到所述管棚（11）的兩個相鄰的盤繞部中，并且所述管棚的急冷水圍繞著環形的插件（20）流動，在所述插件的支座上借助法蘭連接部（22）固定著噴嘴（6）。

10.按照上述權利要求1至3中任一項所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述管棚（11）與所述平滑的管道（12）的長度比為1比2。

11.按照上述權利要求1至3中任一項所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述中央管道（11、12）的下端部被引導管道（21）同心地包圍住。

12.按照權利要求11所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述引導管道（21）的下端部布置得比所述中央管道（12）的下端部更深并且與所述熔渣排出機構（10）保持間隙。

13.按照權利要求11所述的粗制氣清洗系統，其特征在于，所述引導管道（21）的上端部布置得比所述水池（7）的表面更深。