[發明專利]具有氧化釔覆層的部件的清洗液及清洗方法

在審

• 申請號: 201410479949.4
• 申請日: 2014-09-18
• 公開（公告）號: CN104312774A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 高建
• 申請（專利權）人: 高建
• 主分類號: C11D7/08
• 分類號: C11D7/08;H01L21/02
• 代理公司: 北京格旭知識產權代理事務所(普通合伙) 11443
• 代理人: 雒純丹

技術領域

本發明涉及用于清洗具有氧化釔覆層的部件的清洗液及清洗方法。

背景技術

氧化釔具有優良的耐熱、耐腐蝕和高溫穩定性，對還原介質穩定性好，介電常數高，在熒光粉、光學玻璃、氧傳感器、陶瓷和高溫超導材料等方面具有廣泛的應用。可以用于制造微波用磁性材料和軍工用重要材料，也用作光學玻璃、陶瓷材料的添加劑、大屏幕電視用高亮度熒光粉和其他顯像管涂料。還用于制造薄膜電容器和特種耐火材料，以及高壓水銀燈、激光、儲存元件等的磁泡材料。隨著科學技術的發展，氧化釔在電子、材料、航空、航天、原子能和高技術陶瓷等領域的應用會愈加廣泛。

近年來，12英寸數字集成電路芯片生產線已成為主流加工技術，90納米、65納米工藝技術得到大規模應用，45納米技術也逐步步入商業化。隨著集成電路12英寸、18英寸技術時代的到來，與等離子接觸的鋁合金、石英、陶瓷等零部件被轟擊沖蝕而產生的顆粒污染問題成為刻蝕機關鍵零部件制備必須解決的關鍵問題，在高功率的工作條件下，CF4、SF6、Cl2,O2、HBr等腐蝕性氣體及等離子體會對零件表面產生強腐蝕作用，解決這一問題的途徑是在受腐蝕工件的表面噴涂或熔射高純氧化釔覆層進行保護。高純氧化釔材料在電子行業得到越練越廣泛的應用，因其抗等離子體沖蝕性能優于氧化鋁覆層而成為12英寸以上刻蝕機的優選覆層材料，是等離子體反應室鋁質零件防護覆層的主要發展趨勢。

目前，在集成電路(IC)、液晶顯示器(LCD)、發光二極管(LED)、太陽能(Solar)等行業中大量使用通過熔射形成有氧化釔(Y₂O₃)覆層的零部件(這些零部件的底材是SUS、Al、Ti、Cu、陶瓷等)。氧化釔覆層具有優良的耐腐蝕性能，但是價格昂貴。氧化釔覆層表面常常帶有一些附著物，這些附著物的存在會影響到具有氧化釔(Y₂O₃)覆層的零部件的性能，因此，必須定期對氧化釔覆層表面進行清洗以去除這些附著物。

目前普通硅片表面的清洗技術有物理清洗、化學清洗和兆聲清洗。物理清洗是在硅片表面進行打磨，但是這種打磨會在硅片表面造成裂紋，從而降低硅片的使用壽命。化學清洗是使用清洗液對硅片表面進行清洗，清洗液的選擇非常重要，清洗液選擇不當會對硅片表面造成腐蝕。兆聲清洗的缺點是：1)對于目前集成電路工藝中納米級的微小顆粒的去除效率低；2)對金屬離子的去除效率低；3)對有機物的去除有局限性。

目前文獻鮮有報道對氧化釔表面進行清洗的方法。

發明內容

本發明實際解決的技術問題是現有技術中尚未有對具有氧化釔覆層的部件的適合的清洗液及其清洗方法。采用本發明的清洗液和清洗方法，可以克服物理清洗和超聲清洗的缺陷，還能夠避免因選擇清洗液不當所帶來的對氧化釔覆層的腐蝕。

具體來說，本發明提供了如下技術方案：

一種用于清洗具有氧化釔覆層的部件的清洗液，其含有質量濃度小于等于10％且大于0％的硝酸溶液和質量濃度小于5％的氫氟酸溶液。

優選地，上述的清洗液，其中，硝酸溶液的濃度低于等于8％(wt)且大于0％。

優選地，上述的清洗液，其中，硝酸溶液的濃度低于等于5％(wt)且大于等于0％。

另外，本發明還提供所述的清洗液在清洗具有氧化釔覆層的部件方面的用途。

另外，本發明還提供用所述的清洗液清洗具有氧化釔覆層的部件的方法，其特征在于，用所述的清洗液清洗具有氧化釔覆層的部件。

優選地，所述的方法，還包括在用清洗液清洗后或清洗前對氧化釔覆層進行表面噴砂處理。

優選地，所述的方法，其中，噴砂壓力為2-6kg。

更優選地，其中噴砂壓力為3kg，砂材型號為GB(或WA)200-800。

采用本發明的清洗液和方法可以對具有氧化釔覆層的部件進行大批量清洗，能夠克服物理清洗和兆聲清洗的缺陷，還能夠避免因選擇清洗液不當所帶來的對氧化釔覆層的腐蝕。

附圖說明

圖1是硝酸濃度為11％的清洗液(對比例1)清洗具有氧化釔覆層的陶瓷片表面的氧化釔覆膜發生翹起的狀態圖；

圖2是硝酸濃度為15％的清洗液(對比例2)清洗具有氧化釔覆層的陶瓷片表面的氧化釔覆膜發生被腐蝕、剝離的狀態圖；

圖3是實施例4中用本發明的清洗液清洗具有氧化釔覆層的陶瓷片之前的陶瓷片表面狀態圖；

圖4是實施例4中用本發明的清洗液清洗具有氧化釔覆層的陶瓷片之后的陶瓷片表面狀態圖；