[發明專利]高電阻結構的原位溫度檢測裝置、芯片和失效檢測方法有效
| 申請號: | 201410478920.4 | 申請日: | 2014-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN105489519B | 公開(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發明(設計)人: | 馮軍宏;甘正浩 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 吳貴明;張永明 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高電阻結構 溫度檢測裝置 金屬導線 失效檢測 二極管 負極端子 電阻 芯片 電阻溫度系數 二極管控制 正極端子 焦耳熱 申請 輻射 檢測 | ||
1.一種高電阻結構的原位溫度檢測裝置,其特征在于,包括:
二極管(1),具有正極端子(11)和負極端子(12);所述二極管(1)用于控制電流的走向;
金屬導線(2),與所述二極管(1)的負極端子(12)相連接;所述金屬導線(2)用于感應高電阻結構輻射出的熱量。
2.根據權利要求1所述的原位溫度檢測裝置,其特征在于,所述金屬導線(2)包括:
第一金屬導線(21),與所述負極端子(12)相連接;
多條并聯的第二金屬導線(22),各所述第二金屬導線(22)的一端與所述第一金屬導線(21)相連接;
第三金屬導線(23),各所述第二金屬導線(22)的另一端與所述第三金屬導線(23)相連接。
3.根據權利要求2所述的原位溫度檢測裝置,其特征在于,相鄰所述第二金屬導線(22)的間距為0.05~0.5μm。
4.根據權利要求1所述的原位溫度檢測裝置,其特征在于,所述金屬導線(2)為一條彎折的金屬導線。
5.根據權利要求4所述的原位溫度檢測裝置,其特征在于,所述一條彎折的金屬導線各部分之間沒有交叉。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的原位溫度檢測裝置,其特征在于,所述金屬導線(2)為銅導線或鋁導線。
7.一種芯片,其特征在于,包括:
高電阻結構(100);以及
權利要求1至6中任一項所述的原位溫度檢測裝置,在所述高電阻結構(100)的上方設置,用于檢測所述高電阻結構(100)的工作溫度。
8.根據權利要求7所述的芯片,其特征在于,所述原位溫度檢測裝置的二極管(1)的正極端子(11)與所述高電阻結構(100)的第一端電性連接;所述金屬導線(2)的遠離所述二極管(1)的一端與所述高電阻結構(100)的第二端電性連接。
9.一種高電阻結構的失效檢測方法,其特征在于,所述失效檢測方法采用權利要求1至6中任一項所述的原位溫度檢測裝置實施,且包括:
步驟S1,在預定溫度T0和預定電壓下,獲取所述原位檢測裝置的金屬導線(2)在所述預定溫度T0時的電阻值RT0和電阻溫度系數TCRT0;
步驟S2,將所述金屬導線(2)設置在所述高電阻結構(100)的上方,利用所述金屬導線(2)感應所述高電阻結構(100)所輻射的熱量;
步驟S3,在所述高電阻結構(100)的兩端施加電壓,檢測通過所述高電阻結構(100)的高阻電流;
步驟S4,施加與步驟S1相同的所述預定電壓,利用電阻值RT0和TCRT0獲取所述金屬導線(2)的溫度值T2;
步驟S5,利用所述高阻電流、所述溫度值T2和Black電遷移方程計算所述高電阻結構(100)的平均失效時間。
10.根據權利要求9所述的失效檢測方法,其特征在于,所述步驟S2中,所述金屬導線(2)懸置于所述高電阻結構(100)的上方,或者在所述高電阻結構(100)的表面上設置絕緣層,所述金屬導線(2)設置在所述絕緣層上。
11.根據權利要求9所述的失效檢測方法,其特征在于,所述原位溫度檢測裝置的二極管(1)的正極端子(11)與所述高電阻結構(100)的第一端電性連接;所述金屬導線(2)的遠離所述二極管(1)的一端與所述高電阻結構(100)的第二端電性連接。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





