[發明專利]一種涂層導體單緩沖層及其制備方法在審
| 申請號: | 201410476579.9 | 申請日: | 2014-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN104264132A | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 金利華;于澤銘;馮建情;李成山;王耀;張平祥 | 申請(專利權)人: | 西北有色金屬研究院 |
| 主分類號: | C23C18/12 | 分類號: | C23C18/12;H01B12/06;H01B13/00 |
| 代理公司: | 西安創知專利事務所 61213 | 代理人: | 譚文琰 |
| 地址: | 710016*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 涂層 導體 緩沖 及其 制備 方法 | ||
1.一種涂層導體單緩沖層,其特征在于,該緩沖層的化學組成為LaZrxCeyOδ,其中x的取值為1~2,y的取值為0.2~2,δ=1.5+2x+2y。
2.根據權利要求1所述的一種涂層導體單緩沖層,其特征在于,所述x的取值為1~1.5,y的取值為0.2~1。
3.一種制備如權利要求1或2所述單緩沖層的方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
步驟一、將鑭的有機鹽、鋯的有機鹽和鈰的有機鹽按照La:Zr:Ce=1:x:y的摩爾比溶解于丙酸中,得到金屬離子摩爾濃度為1mol/L~2mol/L的前驅液;
步驟二、采用浸涂法將步驟一中所述前驅液涂敷于NiW金屬基帶上,然后將涂敷有前驅液的NiW金屬基帶置于熱處理爐中,在還原性氣氛保護下,以50℃/min~100℃/min的升溫速率將熱處理爐爐溫升至900℃~1050℃,保溫熱處理0.5h~1h,隨爐冷卻后出爐,在NiW金屬基帶表面得到LaZrxCeyOδ單緩沖層。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,步驟一中所述丙酸為分析純試劑。
5.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,步驟一中所述鑭的有機鹽為乙酸鑭或乙酰丙酮鑭,鋯的有機鹽為乙酰丙酮鋯,鈰的有機鹽為乙酸鈰或乙酰丙酮鈰。
6.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,步驟二中所述還原性氣氛為氬氣與氫氣的混合氣氛,混合氣氛中氫氣的體積百分含量為2%~6%。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





