[發明專利]一種氨氣吸收裝置

無效

• 申請號: 201410476010.2
• 申請日: 2014-09-17
• 公開（公告）號: CN104190214A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 陳艷征;徐成;季小強;閆偉
• 申請（專利權）人: 南京凱盛國際工程有限公司
• 主分類號: B01D53/18
• 分類號: B01D53/18
• 代理公司: 南京知識律師事務所 32207
• 代理人: 高嬌陽

技術領域

本發明涉及一種氣體吸收裝置，尤其是指一種用于SNCR煙氣脫硝的氨氣吸收裝置。

背景技術

SNCR脫硝技術在水泥行業已逐漸使用，用來治理氮氧化物(NOX)廢氣污染物的排放問題。該技術即在分解爐或窯尾煙室的部分區域(溫度區間850～1100℃)噴射還原劑溶液(尿素溶液或者氨水)，與NOX進行化學反應，生成清潔的N2和水，達到煙氣脫硝的目的。對于使用氨水為還原劑的SNCR脫硝系統，氨氣吸收裝置作為其重要安全裝置，其性能直接影響著整個SNCR脫硝系統的安全。

目前國內水泥行業中，大部分以氨水為還原劑的脫硝系統沒有配置氨氣吸收裝置，部分系統安裝了氨氣吸收裝置，但吸收效率不高、存在脫硝車間附近氨氣味重，氨氣濃度較大等安全隱患，不能實現氨氣的充分吸收和最大化利用。

發明內容

針對以上問題本發明提供了一種能充分吸收和最大化利用氨氣的新型氨氣吸收裝置。

為了解決以上問題本發明提供了一種氨氣吸收裝置，其包括液位計、進氣管路、換氣管路、人孔門、進水管路、水泵組件、吸收箱體、排污閥，在吸收箱體側面設置可視液位計，觀察液位計中氨水顏色判斷氨水濃度；在吸收箱體側下面設置水泵組件，定時將一定濃度的氨水溶液輸送至氨水儲存或回收裝置；排污閥設置在吸收箱體側下方或底部，便于設備維護保養；進氣管路、換氣管路、人孔門設置在吸收箱體上表面，換氣管路通過法蘭連接管路接至脫硝車間外，便于箱體進清水和輸出氨水；進水管路設置在吸收箱體側上方，其特征在于：在進氣管路末端連接有吸收管，吸收管位于吸收箱體的內下部，吸收管壁上設有通孔。吸收管置于液面下，進入吸收管內的氨氣通過通孔在清水內可充分溶解。

所述的進水管路末端連接有浮球閥；自動控制吸收箱體內液面高度。

在吸收管的圓周上布滿多個通孔或在吸收管的長度方向上設置一排或多排通孔。當吸收管的長度方向上設置一排排通孔時，吸收管上的通孔正對吸收箱體的內底面。

所述的通孔優選為槽口。

所述通孔在吸收管的前端分布分散，后端分布密集。

所述的吸收管為多根，多根吸收管優選為錯位排列和并列排列。

在箱體上且位于吸收管尾端部分設有吸收管的限位結構，所述的限位結構由兩根槽鋼組成，分別設置在吸收箱體內底面和內側壁。限位結構可減少氨氣溶解時吸收管的震動。

本發明具有安裝快捷、操作簡易、維護方便等優點，其最大的特點是節能環保、氨氣吸收效率高、便于氨水回收利用。

附圖說明

圖1為本發明示意圖；

圖2為本發明中吸收管的排布示意圖；

圖3為本發明中吸收管的局部放大圖；

圖4為圖1中的I放大圖。

具體實施方式

下面結合附圖，對本發明作進一步詳細說明。

如圖1至4所示，本發明提供了一種氨氣吸收裝置，其包括液位計1、進氣管路2、換氣管路3、人孔門4、進水管路5、浮球閥6、水泵組件7、吸收箱體8、吸收管9、排污閥10，在吸收箱體8側面設置可視液位計1，在吸收箱體8側下面設置水泵組件7，排污閥10設置在吸收箱體8側下方或底部，進氣管路2、換氣管路3、人孔門4設置在吸收箱體8上表面，進水管路5設置在吸收箱體8側上方，在進氣管路2末端連接有四根吸收管9(如圖2所示)，四根吸收管9并列排布，吸收管9位于吸收箱體8的內下部，吸收管9上設有不同間距和數量的通孔11(如圖2、3、4所示)，此處的通孔為槽口；吸收管9上的通孔11正對吸收箱體8的內底面；所述通孔11在吸收管9的前端分布較分散，后端分布較密集。

所述的進水管路5末端連接有浮球閥6。在箱體8上且位于吸收管9尾端部分設有兩根槽鋼12，分別設置在吸收箱體8內底面和內側壁。

本發明氨氣吸收裝置現場通過法蘭對外連接，進水管路5與清水供應裝置相連，進氣管路2與氨水儲存裝置上方出氣管路相連，水泵組件7與氨水儲存或回收裝置相連，換氣管路3通過現場管路連接至車間外。SNCR脫硝系統運行前，通過進水管路5和浮球閥6向吸收箱體8內通入一定的清水，確保液位計1顯示準確。氨水罐車向氨水儲存裝置輸送氨水時，氨水儲存裝置中逸出的大量氨氣通過進氣管路2和吸收管9在吸收箱體8中充分溶解。吸收箱體8吸收若干次后，通過液位計1觀察氨水顏色并判斷濃度，濃度達到一定時，開啟水泵組件7將氨水輸送至氨水儲存或回收裝置。

以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不限制于本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的權利要求范圍之內。