[發(fā)明專利]適用于大面積奈米結(jié)構(gòu)制作的拼接式雷射干涉微影設(shè)備

有效

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• 申請日: 2014-09-16
• 公開（公告）號: CN104216239B
• 公開（公告）日: 2017-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉崇志
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門潤晶光電集團(tuán)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司35203
• 代理人: 李寧

1.適用于大面積奈米結(jié)構(gòu)制作的拼接式雷射干涉微影設(shè)備，其特征在于：由本體和安裝在本體上的雷射光波供應(yīng)單元、反射機(jī)構(gòu)、L形固定機(jī)構(gòu)及基板載臺組成；

雷射光波供應(yīng)單元包括雷射光源發(fā)生器、快門、針孔和透鏡，雷射光源發(fā)生器發(fā)出的雷射光束通過快門、針孔和透鏡射出形成雷射光波；

反射機(jī)構(gòu)包括三維活動支架和第二反射鏡，第二反射鏡安裝在三維活動支架上，第二反射鏡對應(yīng)透鏡并承接雷射光波；

L形固定機(jī)構(gòu)由豎直固定座、第一反射鏡、水平固定座和光罩，豎直固定座垂直安裝在水平固定座上，第一反射鏡和光罩對應(yīng)第二反射鏡分別安裝在豎直固定座和水平固定座上，第二反射鏡的反射光波一部分由第一反射鏡反射進(jìn)入光罩而另一部分直接進(jìn)入光罩；

基板載臺包括X向軸座、X向移動軸、X向驅(qū)動機(jī)構(gòu)、Y向軸座、Y向移動軸、Y向驅(qū)動機(jī)構(gòu)和基板夾頭，X向移動軸安裝在X向軸座上，X向移動軸由X向驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動在X向軸座上沿X向進(jìn)行移動，Y向軸座安裝在X向移動軸上，Y向移動軸安裝在Y向軸座上，Y向移動軸由Y向驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動在Y向軸座上沿Y向進(jìn)行移動，基板夾頭安裝在Y向移動軸上，且基板夾頭位置低于水平固定座使基板夾頭上的基板位于光罩下方。

2.如權(quán)利要求1所述的適用于大面積奈米結(jié)構(gòu)制作的拼接式雷射干涉微影設(shè)備，其特征在于：所述雷射光波供應(yīng)單元還包括第一鏡、第二鏡和第三鏡，第一鏡和第二鏡安裝在雷射光源發(fā)生器和快門之間，雷射光源發(fā)生器發(fā)出的雷射光束通過第一鏡和第二鏡的折射進(jìn)入快門，第三鏡安裝在快門和針孔之間，從快門出來的雷射光束通過第三鏡折射、穿過針孔、從透鏡射出形成雷射光波。

3.如權(quán)利要求2所述的適用于大面積奈米結(jié)構(gòu)制作的拼接式雷射干涉微影設(shè)備，其特征在于：所述雷射光源發(fā)生器安裝在本體的左側(cè)后端部，在本體的前側(cè)并排安裝三個立柱，在本體的右側(cè)中間也安裝一個立柱，第一鏡和第二鏡一下一上安裝在本體的前側(cè)左端的立柱上，快門安裝在本體的前側(cè)中間的立柱上方，第三鏡安裝在本體的前側(cè)右端的立柱上方，針孔和透鏡一前一后安裝在本體的右側(cè)中間的立柱上方。

4.如權(quán)利要求1所述的適用于大面積奈米結(jié)構(gòu)制作的拼接式雷射干涉微影設(shè)備，其特征在于：所述反射機(jī)構(gòu)的三維活動支架由X軸滑軌、X軸滑塊、Z軸滑軌、Z軸滑塊和Y軸滑軌組成，X軸滑軌固定安裝在本體上，X軸滑塊以可滑動的方式安裝在X軸滑軌上，Z軸滑軌固定安裝在X軸滑塊上，Z軸滑塊以可滑動的方式安裝在Z軸滑軌上，Y軸滑軌固定安裝在Z軸滑塊上，第二反射鏡以可滑動的方式安裝在Y軸滑軌上。