[發明專利]一種芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元及封裝方法有效
| 申請號: | 201410470282.1 | 申請日: | 2014-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN104201168B | 公開(公告)日: | 2017-01-25 |
| 發明(設計)人: | 張加勇;濮必得;劉昭麟;康新玲 | 申請(專利權)人: | 山東華芯半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/488 | 分類號: | H01L23/488;H01L21/60;H01L25/16 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司37205 | 代理人: | 趙佳民 |
| 地址: | 250101 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 芯片 傾斜 堆疊 圓片級 封裝 單元 方法 | ||
1.一種用于制作芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元的封裝方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)提供圓片級芯片載板(10)、圓片級玻璃載板(12)、合金板和若干組封裝芯片單元,每組封裝芯片單元包括N個封裝芯片,分別為水平芯片Chip0、第一傾斜芯片Chip1、第二傾斜芯片Chip2……第N-1傾斜芯片ChipN-1,且N≥3;
(2)在圓片級芯片載板(10)表面粘貼PET膠膜(11);
(3)將每組封裝芯片單元中背面帶有DAF膠膜(5)或FOW膠膜(5)的封裝芯片依次粘貼到圓片級芯片載板(10)上,其中水平芯片Chip0水平放置,第一傾斜芯片Chip1傾斜搭在水平芯片Chip0一條邊上,第二傾斜芯片Chip2平行交錯放置在第一傾斜芯片Chip1上,以此類推,后續傾斜芯片均與其前一個芯片平行交錯放置,形成傾斜堆疊結構;
(4)在圓片級芯片載板(10)上表面,自上而下對步驟(3)形成的傾斜堆疊結構施加壓力,去除封裝芯片底部與圓片芯片載板之間和所有封裝芯片之間的氣泡;
(5)在圓片級芯片載板(10)上表面刷硅膠,形成硅膠層(6),使其覆蓋所有封裝芯片單元;
(6)在硅膠層(6)上安裝合金板,作為合金層(7),并在真空環境下按壓硅膠層(6),去除硅膠層(6)中的氣泡,以使硅膠均勻的分布,且表面平整;
(7)固化硅膠層(6)并去除圓片級芯片載板(10)和PET膠膜(11),完成晶圓重構;
(8)將重構好的晶圓,以合金層(7)為結合面貼裝在圓片級玻璃載板(12)上;
(9)在DAF(5)或FOW膠膜(5)上形成通孔至所有封裝芯片芯片焊盤(9)表面,隨后填充通孔形成金屬插塞(1),使金屬插塞(1)一端與芯片焊盤(9)相接,然后在金屬插塞(1)另一端形成金屬焊盤(2);
(10)采用重布線技術RDL對金屬焊盤(2)進行重新布局,形成重布線層(3),去除圓片級玻璃載板(12),并在合金層(7)表面制作用于激光打標的覆蓋層(8),最后進行激光打標、植球和切單,形成芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元。
2.根據權利要求1所述的一種用于制作芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元的封裝方法,其特征在于:所述若干組封裝芯片單元中的傾斜芯片的芯片焊盤(9)均在芯片設計中用重新布線RDL方法布局在了傾斜芯片的一側;所述重布線層(3)的制作工序,是在步驟(9)所有芯片焊盤(9)的通孔、金屬插塞(1)和金屬焊盤(2)完成后同步進行。
3.根據權利要求1所述的一種用于制作芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元的封裝方法,其特征在于:所述通孔通過干法刻蝕或激光鉆孔方式形成;所述金屬插塞(1)和金屬焊盤(2)通過物理氣相淀積PVD、電鍍或化學鍍方法形成;所述通孔、金屬插塞(1)和金屬焊盤(2)的形成按照芯片焊盤(9)表面的DAF膠膜(5)或FOW膠膜(5)膜厚不同分別形成。
4.根據權利要求1所述的一種用于制作芯片傾斜堆疊的圓片級封裝單元的封裝方法,其特征在于:所述封裝芯片單元中水平芯片Chip0的多條邊上均放置傾斜芯片,且每邊放置的傾斜芯片的數量大于2。
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