[發(fā)明專利]一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410467998.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104269651B | 公開(公告)日: | 2017-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李家林;王策;肖紹球;王秉中 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01Q15/14 | 分類號(hào): | H01Q15/14;H01Q19/10;H01Q21/28 |
| 代理公司: | 電子科技大學(xué)專利中心51203 | 代理人: | 李明光 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 同時(shí) 雙工 系統(tǒng) 反射 天線 | ||
1.一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,能夠同時(shí)接收和發(fā)射相同工作頻率、同向極化的信號(hào),其特征在于,包括發(fā)射端饋源(1)、接收端饋源(2)和由雙層金屬貼片單元組成的反射陣列,所述雙層金屬貼片單元的結(jié)構(gòu)由下至上依次為下層金屬地板(6)、介質(zhì)基板(3)、上層金屬貼片(4)以及在介質(zhì)基板(3)內(nèi)的下層金屬貼片(5);所述雙層金屬貼片單元的上層金屬貼片(4)與下層金屬貼片(5)的形狀相似、法向軸線重合,且上層金屬貼片(4)的尺寸小于下層金屬貼片(5)的尺寸,所述的雙層金屬貼片單元以鏡面對(duì)稱方式排布成所述的呈鏡面對(duì)稱的反射陣列;
所述發(fā)射端饋源(1)和接收端饋源(2)以側(cè)饋方式并呈鏡像對(duì)稱分別置于反射陣列同一側(cè)的兩端,且發(fā)射端饋源(1)和接收端饋源(2)的對(duì)稱面與所述反射陣列的對(duì)稱面重疊;
通過(guò)調(diào)整所述反射陣列中每個(gè)雙層金屬貼片單元的上、下層金屬貼片的尺寸,對(duì)相應(yīng)雙層金屬貼片單元進(jìn)行相位補(bǔ)償,使反射陣列經(jīng)發(fā)射端饋源(1)照射后形成沿反射陣列法方向的筆形波束,同時(shí)接收端饋源(2)接收沿反射陣列法方向的來(lái)波信號(hào)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的雙層金屬貼片單元的上層金屬貼片(4)與下層金屬貼片(5)均為圓形或均為環(huán)形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的雙層金屬貼片單元的上層金屬貼片(4)與下層金屬貼片(5)均為方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的反射陣列上的所有雙層方形金屬貼片單元的上層金屬貼片(4)與相應(yīng)下層金屬貼片(5)片的邊長(zhǎng)比均相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的反射陣列中相鄰雙層金屬貼片單元的中心間距均相同且不大于工作頻率對(duì)應(yīng)的二分之一自由空間波長(zhǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的發(fā)射端饋源(1)和接收端饋源(2)均為喇叭天線。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于同時(shí)同頻全雙工系統(tǒng)的反射陣天線,其特征在于,所述的喇叭天線的口徑為圓形。
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