[發(fā)明專利]晶圓級指紋識別芯片封裝結(jié)構(gòu)及封裝方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410465346.9 | 申請日: | 2014-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN104201115A | 公開(公告)日: | 2014-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王之奇;喻瓊;王蔚 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州晶方半導(dǎo)體科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56;H01L21/60;H01L23/31;H01L23/48;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 應(yīng)戰(zhàn);駱蘇華 |
| 地址: | 215021 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓級 指紋識別 芯片 封裝 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種晶圓級指紋識別芯片封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法。
背景技術(shù)
隨著現(xiàn)代社會的進步,個人身份識別以及個人信息安全的重要性逐步受到人們的關(guān)注。由于人體指紋具有唯一性和不變性,使得指紋識別技術(shù)具有安全性好,可靠性高,使用簡單方便的特點,使得指紋識別技術(shù)被廣泛應(yīng)用于保護個人信息安全的各種領(lǐng)域。而隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,各類電子產(chǎn)品的信息安全問題始終是技術(shù)發(fā)展的關(guān)注要點之一。尤其是對于移動終端,例如手機、筆記本電腦、平板的電腦、數(shù)碼相機等,對于信息安全性的需求更為突出。
現(xiàn)有的指紋識別器件的感測方式包括電容式(電場式)和電感式,指紋識別器件通過提取用戶指紋,并將用戶指紋轉(zhuǎn)換為電信號輸出,從而獲取用戶的指紋信息。具體的,如圖1所示,圖1是現(xiàn)有技術(shù)的一種指紋識別器件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖,包括:基板100;耦合于基板100表面的指紋識別芯片101;覆蓋于所述指紋識別芯片101表面的玻璃基板102。
以電容式指紋識別芯片為例,所述指紋識別芯片101內(nèi)具有一個或多個電容極板。由于用戶手指的表皮或皮下層具有凸起的脊和凹陷的谷,當(dāng)用戶手指103接觸所述玻璃基板102表面時,所述脊與谷到指紋識別芯片101的距離不同,因此,用戶手指103脊或谷與電容極板之間的電容值不同,而指紋識別芯片101能夠獲取所述不同的電容值,并將其轉(zhuǎn)化為相應(yīng)的電信號輸出,而指紋識別器件匯總所受到的電信號之后,能夠獲取用戶的指紋信息。
然而,在現(xiàn)有的指紋識別器件中,對指紋識別芯片的靈敏度要求較高,使得指紋識別器件的制造及應(yīng)用受到限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是簡化指紋識別芯片的封裝方法,降低對感應(yīng)芯片的靈敏度的要求,使所述封裝方法的應(yīng)用更廣泛。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種晶圓級指紋識別芯片封裝方法,包括:提供襯底,所述襯底包括若干感應(yīng)芯片區(qū),所述襯底具有第一表面、以及與所述第一表面相對的第二表面,所述感應(yīng)芯片區(qū)的第一表面包括感應(yīng)區(qū);在所述襯底的第一表面形成覆蓋層;在所述襯底的感應(yīng)芯片區(qū)內(nèi)形成插塞結(jié)構(gòu),所述插塞結(jié)構(gòu)的一端與所述感應(yīng)區(qū)電連接,且所述襯底的第二表面暴露出所述插塞結(jié)構(gòu)的另一端。
可選的,所述覆蓋層的莫氏硬度大于或等于8H;所述覆蓋層的介電常數(shù)大于或等于7。
可選的,所述覆蓋層的材料為無機納米材料、聚合物材料、玻璃材料或陶瓷材料。
可選的,所述聚合物材料為環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺樹脂、苯并環(huán)丁烯樹脂、聚苯并惡唑樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚烯烴、聚氨酯、聚烯烴、聚醚砜、聚酰胺、聚亞氨酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯醇。
可選的,所述覆蓋層的形成工藝為絲網(wǎng)印刷工藝、旋涂工藝或噴涂工藝。
可選的,所述無機納米材料為氧化鋁或氧化鈷。
可選的,所述覆蓋層的形成工藝為化學(xué)氣相沉積工藝、物理氣相沉積工藝、原子層沉積工藝、絲網(wǎng)印刷工藝、旋涂工藝或噴涂工藝。
可選的,所述插塞結(jié)構(gòu)的形成工藝包括:在所述襯底的第二表面形成掩膜層,所述掩膜層暴露出需要形成插塞結(jié)構(gòu)的對應(yīng)位置和形狀;以所述掩膜層為掩膜,刻蝕所述襯底,在襯底內(nèi)形成通孔,所述通孔的頂部位于所述襯底的第二表面;在所述通孔內(nèi)形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu);在形成通孔之后,去除所述掩膜層。
可選的,所述插塞結(jié)構(gòu)包括:位于所述通孔側(cè)壁表面的絕緣層;位于所述絕緣層表面、以及通孔底部表面的導(dǎo)電層,位于所述通孔底部的導(dǎo)電層與所述感應(yīng)區(qū)電連接;位于所述導(dǎo)電層表面的防焊層,所述防焊層填充滿所述通孔。
可選的,還包括:在所述襯底第二表面形成布線層和金屬凸塊,所述布線層與所述導(dǎo)電層和金屬凸塊連接,且所述布線層和金屬凸塊位于感應(yīng)芯片區(qū)內(nèi)。
可選的,所述插塞結(jié)構(gòu)包括:位于所述通孔側(cè)壁表面的絕緣層;位于所述絕緣層表面、以及通孔底部表面的導(dǎo)電插塞,所述導(dǎo)電插塞填充滿所述通孔。
可選的,還包括:在所述襯底第二表面暴露出的導(dǎo)電插塞頂部形成金屬凸塊。
可選的,所述感應(yīng)芯片區(qū)的第一表面還包括包圍所述感應(yīng)區(qū)的外圍區(qū)。
可選的,位于所述外圍區(qū)內(nèi)的芯片電路和第一焊墊,所述芯片電路與所述感應(yīng)區(qū)和所述第一焊墊電連接。
可選的,所述插塞結(jié)構(gòu)的一端與所述第一焊墊連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州晶方半導(dǎo)體科技股份有限公司;,未經(jīng)蘇州晶方半導(dǎo)體科技股份有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410465346.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





