[發(fā)明專利]一種基于圖像處理的太陽(yáng)能硅片和電池片的計(jì)數(shù)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410462869.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104240204B | 公開(公告)日: | 2017-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫智權(quán);張千;童鋼 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鎮(zhèn)江蘇儀德科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T5/00 | 分類號(hào): | G06T5/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 212013 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 圖像 處理 太陽(yáng)能 硅片 電池 計(jì)數(shù) 方法 | ||
1.一種基于圖像處理的太陽(yáng)能硅片和電池片的計(jì)數(shù)方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟101、對(duì)層疊硅片或電池片的側(cè)面圖像進(jìn)行預(yù)處理,其包括:
步驟1011,對(duì)層疊硅片或電池片的側(cè)面圖像進(jìn)行中值濾波,采用中值濾波器將像素鄰域內(nèi)灰度的中值代替該像素的值,去除椒鹽噪聲,為查找條紋縫隙做準(zhǔn)備;
步驟1012,對(duì)中值濾波處理之后的圖像進(jìn)行伽馬變換,增強(qiáng)圖像對(duì)比度;伽馬變換的基本形式為:
s=crγ????(1)
其中,r為輸入灰度級(jí),s為輸出灰度級(jí),c和γ為正常數(shù),當(dāng)γ<1時(shí)冪律曲線將較窄范圍的暗色輸入值映射為較寬范圍的輸出值,擴(kuò)展圖像灰度級(jí),增強(qiáng)圖像條紋特性;
步驟102、定位被測(cè)物,并由掩膜處理限定運(yùn)算區(qū)域,其包括:
步驟1021,查找層疊的硅片或電池片的最上以及最下的邊緣,得到邊緣坐標(biāo)信息;其方法是先確定一個(gè)搜索區(qū)域,在搜索區(qū)域內(nèi),設(shè)置從上到下的若干搜索線,根據(jù)每條搜索線上的線剖面圖得到第一個(gè)灰度變化的峰值點(diǎn)以及最后一個(gè)灰度變化的峰值點(diǎn);之后將所有搜索線上的第一個(gè)灰度變化的峰值點(diǎn)擬合為一條直線作為被測(cè)物的上邊緣,所有搜索線上的最后一個(gè)灰度變化峰值點(diǎn)擬合為一條直線作為被測(cè)物的下邊緣;所得到邊緣坐標(biāo)信息為:
up1=(x0,y0),up2=(x1,y1)????(2)
down1=(x2,y2),down2=(x3,y3)????(3)
其中up1,up2為最上邊緣線兩端坐標(biāo),down1,down2為最下邊緣線兩端坐標(biāo);
步驟1022,基于所得到的邊緣信息對(duì)預(yù)處理之后的圖像進(jìn)行旋轉(zhuǎn),使層疊硅片或電池片的條紋圖像水平分布,旋轉(zhuǎn)之后所得到的邊緣坐標(biāo)信息變?yōu)椋?/p>
up=(x,Y0),down=(x,Y1)????(4)
其中Y0,Y1為最上邊緣和最下邊緣的縱坐標(biāo),x的值從0到圖像像素橫坐標(biāo)的最大值,up,down表示兩條水平直線,代表層疊硅片或電池片的最上以及最下的邊緣所擬合的直線;
步驟1023,基于所得到的邊緣信息對(duì)旋轉(zhuǎn)之后的圖像進(jìn)行掩膜處理,使對(duì)圖像的運(yùn)算區(qū)域減至最小,提高運(yùn)算效率;如式(5)所示,通過所得的層疊硅片或電池片的最上以及最下的邊緣信息up,down,確定掩膜圖像;
其中,H(x,y)為掩膜圖像的灰度值,(x,y)為對(duì)應(yīng)坐標(biāo),Y0,Y1為所得的最上邊緣和最下邊緣的縱坐標(biāo);在所檢測(cè)到的被測(cè)物最上以及最下邊緣所在的y坐標(biāo)基礎(chǔ)上,將各向上向下拓展30個(gè)像素之后的圖像作為運(yùn)算區(qū)域,得到掩膜后的圖像;
步驟103、將掩膜后的圖像復(fù)制,分別進(jìn)行不同閾值處理,以對(duì)兩幅閾值處理之后的結(jié)果圖像進(jìn)行邏輯或操作的方式完成去噪二值化,得到去噪二值化的圖像,其包括:
步驟1031,將掩膜后的圖像復(fù)制,由一份圖像分為相同的兩份圖像;
步驟1032,對(duì)復(fù)制之后的其中一份圖像采用Niblack局部閾值方法進(jìn)行二值化,并將二值化后的圖像進(jìn)行粒子濾波,濾除由Niblack二值化處理帶來(lái)的細(xì)節(jié)噪聲,得到一個(gè)結(jié)果圖像;Niblack二值化方法是基于局部均值和局部標(biāo)準(zhǔn)差的,它的基本公式如式(8):
T(x,y)=m(x,y)+k*s(x,y)????(8)
對(duì)于圖像I(x,y),在(x,y)處的閾值T(x,y)由局部均值m(x,y)和局部標(biāo)準(zhǔn)差s(x,y)決定,k表示調(diào)整系數(shù);
步驟1033,對(duì)復(fù)制之后的另一份圖像采用背景校正方法進(jìn)行二值化,查找縫隙暗區(qū)域,使用如下公式(9)進(jìn)行計(jì)算:
B(x,y)=m(x,y)-I(x,y)????(9)
其中,B(x,y)為背景校正圖像灰度值,m(x,y)為窗口的平均灰度值,I(x,y)為輸入圖像灰度值;之后使用組內(nèi)方差自動(dòng)閾值方法分割背景校正圖像得到二值化圖像,即為另一個(gè)結(jié)果圖像;
步驟1034,將上述兩份閾值處理之后的結(jié)果圖像進(jìn)行邏輯或操作,得到噪聲較小且縫隙信息保留較完整的二值化圖像,完成片間縫隙的查找;
步驟104、對(duì)所得去噪二值化圖像進(jìn)行后處理:采用形態(tài)學(xué)處理方法,通過先open操作后close操作將行方向縫隙連接,縱方向縫隙斷開;之后通過骨架提取將二值化的縫隙細(xì)化,得到細(xì)化后的圖像;
步驟105、差分統(tǒng)計(jì)計(jì)數(shù)與定位,求得所測(cè)層疊的太陽(yáng)能硅片或電池片的數(shù)量:在計(jì)數(shù)之前先將圖像中硅片或電池片的平均厚度求出,每隔10列獲取圖像的某一列的像素灰度分布圖,對(duì)于獲取每一列的灰度圖,都將每一個(gè)上升沿的縱坐標(biāo)減去上一個(gè)上升沿的縱坐標(biāo)并根據(jù)下式(10)進(jìn)行計(jì)算:
其中,G為所測(cè)硅片或電池片的平均厚度,單位為pixel;(M+1)為所測(cè)所有上升沿的數(shù)量;yi,yi-1分別代表當(dāng)前上升沿的縱坐標(biāo)以及上一個(gè)上升沿的縱坐標(biāo);
求得當(dāng)前所測(cè)的硅片或電池片的平均厚度G之后,硅片或電池片計(jì)數(shù)厚度的范圍為[0.65G,2G];在計(jì)數(shù)時(shí)每隔10列獲取圖像的某一列的像素灰度分布圖,對(duì)于獲取每一列的灰度圖,根據(jù)所選取的厚度范圍,以式(11)、(12)以及(13)所示方法求取每一列所得的硅片或電池片的數(shù)量;
Δy=y(tǒng)i-yi-1????(11)
其中,Δy為上升沿之間的距離,單位為pixel;Pn為在所取的圖像的第n列的灰度分布圖下所得的硅片或電池片的數(shù)量;對(duì)所取得的數(shù)量出現(xiàn)的次數(shù)進(jìn)行概率統(tǒng)計(jì),求得最大概率的數(shù)即為本次測(cè)量的硅片或電池片的數(shù)量,并將對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)記下,定位硅片或電池片縫隙所在圖中的位置。
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