[發明專利]基于構造含參伯恩斯坦基函數調整貝塞爾曲線的方法

在審

• 申請號: 201410461312.2
• 申請日: 2014-09-11
• 公開（公告）號: CN104268909A
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 郭大勇;成佳頤;姜國軍;闕開良;吳越
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G06T11/00
• 分類號: G06T11/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種基于構造含參伯恩斯坦基函數調整貝塞爾曲線的方法，其特征在于，包括：

構造含有參數和附加參數的伯恩斯坦Bernstein基函數B_0,n(t),B_m,n(t)…B_n,n(t)；

根據所述Bernstein基函數中B_0,n(t)或B_n,n(t)的單調性以及B_m,n(t)的取值特性，獲取所述Bernstein基函數中所述參數的取值范圍；

根據所述Bernstein基函數的權性及對稱性，獲取所述Bernstein基函數中的附加參數，并將所述附加參數代入所述Bernstein基函數，獲得含有參數的Bernstein基函數；

在所述參數的取值范圍內，通過改變所述參數的取值，調整貝塞爾曲線；

其中，t∈[0,1]，m、n為大于等于1的正整數，n為所述Bernstein基函數的階次。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述構造含有參數和附加參數的伯恩斯坦Bernstein基函數B_0,n(t),B_m,n(t)…B_n,n(t)，包括：

根據所述Bernstein基函數的對稱性以及階次，通過在所述Bernstein基函數中加入參數和附加參數，對所述Bernstein基函數進行同階或升階構造。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述參數為一個，所述附加參數為兩個以上不同的附加參數。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述B_0,n(t)和B_n,n(t)中含有所述參數且不含有所述附加參數，所述B_m,n(t)中既含有所述參數又含有所述附加參數。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述Bernstein基函數中B_0,n(t)或B_n,n(t)的單調性，為所述B_0,n(t)或B_n,n(t)的曲線在預設范圍內單調遞增或者單調遞減。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述B_m,n(t)的取值特性為B_m,n(t)的曲線在處的取值大于除B_m,n(t)之外的任一所述基函數B_0,n(t),B_m,n(t)…B_n,n(t)在的取值。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述根據所述Bernstein基函數中B_0,n(t)或B_n,n(t)的單調性以及B_m,n(t)的取值特性，獲取所述Bernstein基函數中所述參數的取值范圍，包括：

當所述B_0,n(t)或B_n,n(t)的曲線在預設范圍內單調遞增或者單調遞減，且B_m,n(t)的曲線在處的取值大于除B_m,n(t)之外的任一所述基函數B_0,n(t),B_m,n(t)…B_n,n(t)在的取值時，獲取所述Bernstein基函數中的所述參數的取值范圍。