[發明專利]外爆型平面薄膜負載裝置有效
| 申請號: | 201410461018.1 | 申請日: | 2014-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN104219862B | 公開(公告)日: | 2017-01-25 |
| 發明(設計)人: | 袁媛;盛亮;李陽;張美;彭博棟;趙吉禎;李奎念;王培偉 | 申請(專利權)人: | 西北核技術研究所 |
| 主分類號: | H05H1/02 | 分類號: | H05H1/02 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司61211 | 代理人: | 王少文 |
| 地址: | 71002*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 外爆型 平面 薄膜 負載 裝置 | ||
1.一種外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:包括平面金屬薄膜、支撐結構及薄膜調節結構,
所述支撐結構包括陰極底座、陽極底座、陰極平臺及導流柱,所述導流柱的一端通過陰極底座與加速器陰極電接觸,所述導流柱的另一端與陰極平臺電接觸,所述陽極底座位于陰極平臺和陰極底座之間且與加速器陽極電接觸,所述陽極底座和陰極平臺相互平行且與導流柱垂直;
所述薄膜調節結構包括設置于陰極平臺外側的兩個活動陰極、設置于陽極底座外側的兩個限位塊、兩個導軌及兩個固定塊,
所述兩個活動陰極可沿陰極平臺向相反方向滑動并定位,所述兩個固定塊位于導流柱兩外側且與陽極底座固定連接,所述兩個導軌分別固定在兩個固定塊上且與陰極平臺滑動方向平行,所述兩個限位塊分別設置在兩條導軌的兩端并可沿兩條導軌滑動并定位;
所述平面金屬薄膜的一端與一個限位塊電接觸,另一端經過兩個活動陰極的外表面后與另一限位塊電接觸,形成一個倒U型結構,所述倒U型結構的兩臂所在的兩個平面均為負載平面,所述負載平面與導流柱的相對面之間平行。
2.根據權利要求1所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述導流柱與陰極平臺之間通過彈性結構電接觸。
3.根據權利要求2所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述彈性結構包括支撐柱、導向孔、螺紋孔、通孔及螺釘,
所述支撐柱為金屬圓筒且一端與陰極平臺固定連接,所述導向孔沿導流柱軸向設置,所述支撐柱的另一端放入導向孔內,所述螺紋孔與導向孔同軸設置且位于導向孔的底部,所述通孔設置在金屬圓筒的底部,所述螺釘依次穿過通孔、螺紋孔將支撐柱與導流柱連接,所述彈簧套在螺釘上且位于支撐柱與螺紋孔之間,在彈簧處于自然狀態時,所述導流柱與陰極平臺之間有間隙。
4.根據權利要求3所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述彈性結構的數量為兩個,且并行設置。
5.根據權利要求1或2或3或4所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述限位塊上設置有用于壓緊平面金屬薄膜的壓片。
6.根據權利要求5所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述導流柱的正對負載平面的面為矩形,其余面為弧形。
7.根據權利要求6所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述陽極底座的形狀為圓盤狀,所述陰極底座的形狀為圓盤狀或錐盤狀。
8.根據權利要求7所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述活動陰極的形狀為L型,兩個活動陰極沿陰極平臺對角設置。
9.根據權利要求8所述的外爆型平面薄膜負載裝置,其特征在于:所述平面金屬薄膜為鋁膜或鎢膜,其寬度為范圍為0.2-1.5cm,長度為8-10cm,厚度小于50μm。
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