[發明專利]一種使用2個或多個反應區的上流式反應器

無效

• 申請號: 201410456145.2
• 申請日: 2014-09-02
• 公開（公告）號: CN104307439A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 何巨堂
• 申請（專利權）人: 何巨堂
• 主分類號: B01J8/02
• 分類號: B01J8/02;B01J8/04;B01J8/08;B01J8/24;C10G67/00;C10G65/04;C10G65/02
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• 代理人: 暫無信息

1.一種使用2個或多個反應區的上流式反應器，在反應器RE內物流流動方向總體向上，主進料REF1自反應器RE下部進入反應器RE，主產物REPG自反應器RE上部排出反應器RE，其特征在于：下游反應區的工藝介質的空塔水平截面流速低于上游反應區的工藝介質的空塔水平截面流速。

2.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應器RE設置2個或多個催化劑床層，其特征在于下游催化劑床層的膨脹比低于上游催化劑床層的膨脹比；催化劑床層膨脹比KBED定義為催化劑床層有反應原料通過時的工作狀態的最大高度CWH與該催化劑床層的空床靜置狀態的高度CUH之比值。

3.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

上游反應區被該反應區分室隔板GB分割為兩個反應區AC1和AC2，上游反應區的第一部分工藝介質自下而上穿過空間AC1完成預期反應后在反應器RE內部進入后續相鄰反應區，上游反應區的第二部分工藝介質自下而上穿過空間AC2完成預期反應后流出反應器RE通過旁路AP越過至少一個后續反應區后進入反應系統進一步加工。

4.根據權利要求2所述的上流式反應器，其特征在于：

上游催化劑床層被該床層分室隔板GB分割為兩個催化劑空間AC1和AC2，上游反應區的第一部分工藝介質自下而上穿過空間AC1與催化劑接觸后在反應器RE內部進入后續相鄰催化劑床層，上游反應區的第二部分工藝介質自下而上穿過空間AC2與催化劑接觸后流出反應器RE通過旁路AP越過至少一個后續催化劑床層后進入反應系統進一步加工。

5.根據權利要求3所述的上流式反應器，其特征在于：

分室隔板GB上設置小孔。

6.根據權利要求5所述的上流式反應器，其特征在于：

分室隔板GB上設置的小孔的孔面積低于分室板面積的0.1％。

7.根據權利要求3所述的上流式反應器，其特征在于：

上游催化劑床層被該床層分室隔板GB分割為兩個催化劑空間AC1和AC2，空間AC1和AC2的催化劑床層高度不相等。

8.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為固定床。

9.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為上流式膨脹床。

10.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為上流式微膨脹床，所述上流式微膨脹床，其床層膨脹比KBED低于1.10。

11.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為上流式微膨脹床，所述上流式微膨脹床，其床層膨脹比KBED低于1.05。

12.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為上流式微膨脹床，所述上流式微膨脹床，其床層膨脹比KBED低于1.02。

13.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為上流式在線移動床，所述上流式在線移動床，床層內工藝介質向上流動，以連續的方式從床層底部卸出活性已經降低的催化劑，從床層上部補入新鮮催化劑維持床層催化劑藏量。

14.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為在線間歇式置換床，所述在線間歇式置換床，床層內工藝介質向上流動，以間歇的方式卸出活性已經降低的催化劑，以間歇的方式補入新鮮催化劑維持床層催化劑臧量。

15.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區設置的催化劑床層為在沸騰床。

16.根據權利要求1所述的上流式反應器，其特征在于：

反應區采用懸浮床形式。

17.根據權利要求2所述的上流式反應器，其特征在于：

催化劑床層之間的空間設置流入支路進料REF2的支路進料口。