[發明專利]一種仿生青蒿素分子印跡復合膜的制備方法有效
| 申請號: | 201410452575.7 | 申請日: | 2014-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN104231166A | 公開(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發明(設計)人: | 吳易霖;李春香;閆永勝;呂鵬;劉馨琳 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C08F220/56 | 分類號: | C08F220/56;C08F222/14;C08K9/04;C08K3/36;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 仿生 青蒿素 分子 印跡 復合 制備 方法 | ||
1.一種仿生青蒿素分子印跡復合膜的制備方法,其特征在于,按以下步驟進行:
(1)SiO2納米顆粒的制備:
首先,配制溶液A:將氨水和乙醇溶于水中,于燒瓶中磁力攪拌;然后配置
溶液B:將正硅酸乙酯和乙醇混合均勻;將溶液B快速加入A中,并盡量不要讓溶液B接觸瓶壁;一分鐘后攪拌速度降低;用parafilm封住反應燒瓶口,室溫下反應;用乙醇離心清洗三次,真空烘干,即得到SiO2納米顆粒;
(2)丙烯酰胺表面改性SiO2納米顆粒的制備
首先,將(1)中得到的SiO2納米顆粒和3-氨丙基三乙氧基硅烷按照比例混
合分散于無水甲苯中,反應,將得到的產物記為SiO2-APTES,反應結束后,將所得SiO2-APTES清洗后分散于新的無水甲苯中;
然后,在上述SiO2-APTES甲苯溶液中加入丙烯酰氯,用無水碳酸鉀做催化劑,室溫攪拌反應,得到丙烯酰胺表面改性SiO2納米顆粒,記為SiO2-AA,所得產物清洗后真空干燥備用;
(3)合成SiO2納米顆粒負載再生纖維素復合膜
首先,將多巴胺溶解于Tris-HCl?溶液中,然后將再生纖維素膜置于上述溶液
中,多巴胺改性,使聚多巴胺層沉積在再生纖維素膜表面,將所得聚多巴胺改性膜(PDARCM)室溫干燥備用;最后將(2)中制備的SiO2-AA和PDARCM與甲醇混合,超聲后,將上述甲醇溶液置于高壓反應釜反應;反應結束后,用乙醇將所得SiO2納米顆粒負載再生纖維素復合膜清洗三次,真空烘干備用;
(4)合成仿生分子印跡復合膜
將青蒿素和丙烯酰胺溶解于乙醇中,超聲震蕩,使之充分溶解,然后將該混
合物體系置于室溫密閉靜置,使其形成穩定的模板-單體復合物,然后向該體系加入二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二異丁腈以及(3)中所得SiO2納米顆粒負載再生纖維素復合膜;在氮氣保護下反應,反應結束后,將產物充分洗滌,真空干燥至恒重制得仿生分子印跡復合膜。
2.根據權利要求1中所述的一種仿生青蒿素分子印跡復合膜的制備方法,其特
征在于,
步驟(1)中所述的溶液A中氨水、乙醇和水的體積比為8:16:24;
所述燒瓶中磁力攪拌速度為1100rpm;
所述溶液B中正硅酸乙酯和乙醇的體積比為9:1;
所述溶液B與溶液A的體積比為1:1;
所述一分鐘后攪拌速度降低至500?rpm;
所述室溫下反應時間為3小時。
3.根據權利要求1中所述的一種仿生青蒿素分子印跡復合膜的制備方法,其特
征在于,
步驟(2)中所述的SiO2納米顆粒和3-氨丙基三乙氧基硅烷的比例為0.1?g:2mL;
所述的反應為在氮氣保護下50?oC反應12小時;
所述將SiO2-APTES清洗為用甲苯離心清洗三次;
所述SiO2-APTES、甲苯與丙烯酰氯的比例為0.1?g:50?mL:1-2mL;
所述SiO2-APTES與催化劑無水碳酸鉀的質量比為10:1;
所述的室溫攪拌反應條件為在氮氣保護下室溫攪拌反應10小時;
所述將產物洗滌為產物用甲苯清洗三次,乙醇清洗三次。
4.根據權利要求1中所述的一種仿生青蒿素分子印跡復合膜的制備方法,其特
征在于,
步驟(3)中所述的多巴胺濃度為2?mg/L;?Tris-HCl?溶液的濃度為10?mM?,pH=8.5;
所述改性為25?oC改性24小時;
所述SiO2-AA、PDARCM和甲醇的比例為0.15?g:3片:100?mL;
所述超聲時間為10分鐘;
所述在高壓反應釜中反應為75?oC?反應24小時。
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