[發明專利]形成聚芳聚合物的方法

有效

• 申請號: 201410452115.4
• 申請日: 2014-07-16
• 公開（公告）號: CN104327252B
• 公開（公告）日: 2017-05-03
• 發明（設計）人: M·S·奧伯
• 申請（專利權）人: 陶氏環球技術有限公司
• 主分類號: C08G61/12
• 分類號: C08G61/12
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種形成聚合物的方法，所述方法包括：

在催化劑和堿存在下使單體反應，以形成聚合物；

其中所述單體包括具有以下結構的雙(芳基)縮醛

其中

Y¹和Y²各自獨立地是氯、溴、碘、甲磺酸酯基、甲苯磺酸酯基、三氟甲基磺酸酯基、或B^x，其中B^x的每次出現獨立地是通過硼原子結合到Ar¹或Ar²的含硼官能團；

Ar¹和Ar²各自獨立地是未取代或取代的C_6-18亞芳基，或者未取代或取代的C_3-18雜亞芳基，其中Ar¹和Ar²彼此不共價連接來形成包括-Ar¹-O-C-O-Ar²-的環狀結構；和

R¹和R²各自獨立地是氫、未取代或取代的C_1-18直鏈或支鏈烷基、未取代或取代的C_3-18環烷基、未取代或取代的C_6-18芳基、或未取代或取代的C_3-18雜芳基；和，R¹和R²任選地彼此共價結合以形成包括-R¹-C-R²-的環；

其中，當Y¹和Y²的一個是氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基，且Y¹和Y²的另一個是B^x時，所述聚合物包括多個具有以下結構的重復單元

其中Ar¹、Ar²、R¹和R²是如上所定義的，且Ar¹、Ar²、R¹和R²的每次出現是獨立限定的；

其中，當Y¹和Y²都是B^x時，所述單體進一步包括具有以下結構的雙(離去基團)亞芳基

X-Ar³-X

其中X的每次出現獨立地是氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基；其中Ar³是未取代或取代的C_6-18亞芳基，或未取代或取代的C_3-18雜亞芳基；和，其中所述聚合物包括多個具有以下結構的重復單元

其中Ar¹、Ar²、、Ar³、R¹和R²是如上所定義，且Ar¹、Ar²、Ar³、R¹和R²的每次出現是獨立限定的；和

其中當Y¹和Y²彼此獨立地選自氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基時，所述單體進一步包括具有以下結構的雙(含硼官能團)亞芳基

B^x-Ar³-B^x

其中B^x的每次出現獨立地是通過硼原子結合到Ar³的含硼官能團；和，其中所述聚合物包括多個具有以下結構的重復單元

其中Ar¹、Ar²、、Ar³、R¹和R²如上所定義，且Ar¹、Ar²、Ar³、R¹和R²的每次出現是獨立限定的。

2.根據權利要求1所述的方法，其中Y¹和Y²的一個是氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基，且Y¹和Y²的另一個是B^x。