[發明專利]一種在電容式觸摸屏表面進行化學鍍鎳的方法有效
| 申請號: | 201410451613.7 | 申請日: | 2014-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN104445997B | 公開(公告)日: | 2017-02-08 |
| 發明(設計)人: | 王杰然 | 申請(專利權)人: | 福建省飛陽光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 廈門市首創君合專利事務所有限公司35204 | 代理人: | 楊依展 |
| 地址: | 351100 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電容 觸摸屏 表面 進行 化學 方法 | ||
技術領域
本發明涉及化學鍍鎳技術領域,尤其涉及一種在電容式觸摸屏表面進行化學鍍鎳的方法。
背景技術
觸摸屏(TP)技術分為電阻式、表面電容式、投射電容式、表面聲波式和紅外線式,其中,電容式觸摸屏廣泛應用于移動設備和消費電子產品。觸摸屏技術方便了人們對計算機的操作使用,是一種極有發展前途的交互式輸入技術,因而受到各國的普遍重視,并投入大量的人力、物力對其進行研發,新型觸摸屏不斷涌現。
摻錫氧化銦(Indium?Tin?Oxide,?簡稱?ITO)薄膜是一種半導體材料,具有優異的光電特性和導電性,在觸摸屏技術方面得到了廣泛的應用。在電容式觸摸屏玻璃基板表面進行?ITO?濺鍍后,使其成為雙面?ITO?玻璃,不在同一面的?ITO?膜需要通過其四邊邊緣的ITO導線連通,為了降低控制芯片輸入阻抗限制,就必須降低邊緣的ITO電阻,而在?ITO?連通導線上覆蓋一層金屬鎳層用于大大降低其電阻。
化學鍍鎳又稱無電解鍍鎳(EN),其工藝是美國A.Brenner和G.Riddel于1946年在實驗室研究成功的,已在工業中得到了廣泛的應用。對于一些非金屬材料來說,高溫下材料容易變形,而且高溫下鍍液的穩定性比較差,能耗也較高,所以研究低溫化學鍍鎳具有重要的意義。但是,化學鍍鎳在觸摸屏功能片的ITO?連通導線上應用較少,且存在以下問題。在化學鍍鎳的活化步驟中,現有技術采用PdCl2作為活化劑,會導致電極與電極之間不需鍍鎳的地方鍍上導電物質,從而鍍鎳效果較差。
發明內容
本發明解決的技術問題在于提供一種在電容式觸摸屏表面進行化學鍍鎳的方法,該方法的鍍鎳效果好。
有鑒于此,本發明提供了一種在電容式觸摸屏表面進行化學鍍鎳的方法,包括以下步驟:
將ITO?薄膜玻璃依次進行脫脂處理和刻蝕處理;
將刻蝕處理后的ITO?薄膜玻璃置于活化劑中進行活化處理,時間為2-4?分鐘,然后水洗2次,每次2分鐘,所述活化劑按照如下方法制備:將PdCl2、去離子水和濃鹽酸混合,在?50℃下加熱,得到H2PdCl4溶液;向所述H2PdCl4溶液中加入二亞乙基三胺,在?50℃下保持?4h,蒸除溶劑后得到鈀復合物;將所述鈀復合物溶于N-甲基吡咯烷酮中得到鈀復合物的?NMP?溶液,然后將所述鈀復合物的NMP?溶液與二乙二醇單乙醚、二縮水甘油醚丁烷混合,得到活化劑;
將活化處理得到的ITO?薄膜玻璃進行還原處理,然后將還原后的?ITO?薄膜玻璃放入化學鍍液中進行化學鍍鎳,所述化學鍍液包括以下成分:
NiSO4·6H2O?23g/L、Ni(CH3COO)2?6g/L、NaH2PO2·H2O?18g/L、羥基乙酸鈉?20g/L、丁二酸12g/L、去離子水。
優選的,所述脫脂處理為:
將ITO?薄膜玻璃放入1mol/L的堿性液中進行浸漬處理,溫度為50℃,時間為2-4分鐘,然后分別用熱水和冷水清洗各2分鐘,所述堿性液包括以下成分:20g/L的NaHCO3、16g/L的KOH、20g/L的Na3PO4和4g/L的烷基酚聚氧乙烯醚、去離子水。
優選的,所述刻蝕處理為:
將脫脂處理后的ITO?薄膜玻璃放入5mol/L的鹽酸中,時間為3-5分鐘,然后水洗漂洗2次,每次2分鐘。
優選的,所述還原處理為:將活化處理后的?ITO?薄膜玻璃放入還原劑中進行浸漬處理,溫度為50℃,時間為2-4分鐘,然后水洗漂洗2次,每次2分鐘。
優選的,所述還原劑為10g/L的?NaH2PO2·H2O。
優選的,所述化學鍍液的溫度為80℃
優選的,所述化學鍍鎳的時間為5分鐘。
優選的,還包括:
將化學鍍鎳后的ITO?薄膜玻璃洗滌、烘干。
優選的,還包括:
將化學鍍鎳后的ITO?薄膜玻璃置于150℃的烤箱中烘烤。
優選的,所述烘烤的時間為30分鐘。
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