[發明專利]艾普拉唑鈉化合物及其藥物組合物

在審

• 申請號: 201410449271.5
• 申請日: 2014-09-04
• 公開（公告）號: CN105461692A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 陳慶財;趙俊;趙小偉;王孝雯;潘迅
• 申請（專利權）人: 江蘇奧賽康藥業股份有限公司
• 主分類號: C07D401/14
• 分類號: C07D401/14;A61K31/4439;A61P1/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種式I所示的艾普拉唑鈉化合物，

其特征在于，所述艾普拉唑鈉化合物為B型結晶形式，其使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在約5.61±0.2、10.91±0.2、12.64±0.2、16.23±0.2、16.78±0.2、22.94±0.2、28.15±0.2、33.90±0.2度處有特征峰；優選地在5.61±0.2、10.91±0.2、11.16±0.2、11.87±0.2、12.64±0.2、15.01±0.2、16.23±0.2、16.78±0.2、18.52±0.2、19.33±0.2、22.94±0.2、24.63±0.2、28.15±0.2、28.76±0.2、33.90±0.2度處有特征峰。

2.一種制備權利要求1所述的艾普拉唑鈉化合物的方法，包括：將艾普拉唑鈉原料溶解于甲醇或乙醇中，減壓濃縮析晶，過濾，干燥，得到B型結晶形式的艾普拉唑鈉；或者

將艾普拉唑鈉原料溶解于良性溶劑中，緩慢加入不良溶劑，室溫攪拌析晶，過濾，干燥，得到B型結晶形式的艾普拉唑鈉；所述良性溶劑選自甲醇或乙醇；所述不良溶劑選自甲基叔丁基醚或二乙基醚。

3.一種式I所示的艾普拉唑鈉化合物，

其特征在于，所述艾普拉唑鈉化合物為C型結晶形式，其使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在約4.96±0.2、14.15±0.2、14.83±0.2、16.96±0.2、19.16±0.2、27.43±0.2度處有特征峰；優選地，上述C型結晶形式的艾普拉唑鈉化合物使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在約4.96±0.2、9.89±0.2、12.84±0.2、14.15±0.2、14.83±0.2、16.96±0.2、19.18±0.2、20.12±0.2、21.45±0.2、21.89±0.2、23.35±0.2、25.27±0.2、26.18±0.2、27.43±0.2、27.70±0.2、29.93±0.2度處有特征峰。

4.一種制備權利要求3所述的艾普拉唑鈉化合物的方法，包括：將艾普拉唑鈉原料懸浮于不良溶劑中，攪拌，過濾，干燥，得到C型結晶形式的艾普拉唑鈉；所述不良溶劑選自乙腈或乙酸乙酯；或者

將艾普拉唑鈉原料溶解于良性溶劑中，緩慢加入不良溶劑，室溫下攪拌析晶，過濾，干燥，得到C型結晶形式的艾普拉唑鈉；所述良性溶劑選自甲醇、乙醇、異丙醇或四氫呋喃；所述不良溶劑選自二乙醚或二氯甲烷；或者

將艾普拉唑鈉原料溶解于良性溶劑中，減壓濃縮除去良性溶劑，向殘余物加入不良溶劑，室溫下攪拌析晶，過濾，干燥，得到C型結晶形式的艾普拉唑鈉；所述良性溶劑選自甲醇、乙醇或丙酮；所述不良溶劑選自乙腈或乙酸乙酯。

5.一種如式(I)所示的艾普拉唑鈉化合物，

其特征在于，所述艾普拉唑鈉化合物為D型結晶形式，其使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在約4.59±0.2、13.33±0.2、13.72±0.2、14.26±0.2、17.13±0.2、19.75±0.2、22.61±0.2、24.67±0.2、26.52±0.2、27.62±0.2度處有特征峰；優選地，上述D型結晶形式的艾普拉唑鈉化合物使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在2θ約4.59±0.2、6.00±0.2、10.87±0.2、12.48±0.2、13.33±0.2、13.72±0.2、14.26±0.2、17.13±0.2、18.31±0.2、19.75±0.2、20.71±0.2、21.36±0.2、22.61±0.2、24.67±0.2、25.19±0.2、26.52±0.2、27.62±0.2、29.38±0.2、31.76±0.2度處有特征峰。

6.一種制備權利要求5所述的艾普拉唑鈉化合物的方法，包括：將艾普拉唑鈉原料懸浮于氯仿中，室溫攪拌析晶，過濾，干燥，得到D型結晶形式的艾普拉唑鈉。

7.一種如式(I)所示的艾普拉唑鈉化合物，

其特征在于，所述艾普拉唑鈉化合物為E型無定形形式，其使用Cu-Kα輻射，以2θ角度表示的X-射線粉末衍射圖譜在約4.28±0.2、16.78±0.2、18.18±0.2、20.02±0.2度處有特征峰。