[發(fā)明專利]原子層沉積設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410449141.1
• 申請日: 2014-09-04
• 公開（公告）號: CN105463406A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王祥慧
• 申請（專利權(quán)）人: 沈陽拓荊科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉鋒

1.一種原子層沉積設(shè)備，其特征在于，該原子層沉積設(shè)備包括：

傳送室；

分別與所述傳送室連通的預清洗室、熱處理室、加載閉鎖室、以及多個反應(yīng)室；

與所述加載閉鎖室連通的前端模塊；

其中，在所述多個反應(yīng)室中經(jīng)由工藝氣體的反應(yīng)將原子層沉積于基材的表面；

所述傳送室中配備有機械手臂用于在所述傳送室和預清洗室、熱處理室、加載閉鎖 室、以及多個反應(yīng)室之間傳遞基材；

所述前端模塊經(jīng)配置為自動地與所述加載閉鎖室之間傳遞基材。

2.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述傳送室和多個反應(yīng)室各自 獨立地可封閉。

3.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述機械手臂是多層雙臂機械 手。

4.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述多個反應(yīng)室分別能夠同時 沉積3-6片基材。

5.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述多個反應(yīng)室中各自配備有 平行移動裝置或旋轉(zhuǎn)移動裝置用于移動基材。

6.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述傳送室與所述多個反應(yīng)室 之間的連通接口允許一次傳遞一片或兩片基材。

7.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述傳送室與加載閉鎖室之間 的連通接口允許一次傳遞兩片基材。

8.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述多個反應(yīng)室經(jīng)配置為錯開 彼此的工作周期。

9.如權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備，其特征在于，所述基材為晶圓。