[發(fā)明專利]復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410447633.7 | 申請日: | 2014-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN104269101A | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚為;萬宏宇 | 申請(專利權(quán))人: | 立德高科(北京)數(shù)碼科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G09F3/02 | 分類號: | G09F3/02;G09F3/10;G06K19/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100081 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 點陣 圖像 標(biāo)識 及其 制造 方法 | ||
1.一種復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識,其特征在于,由標(biāo)識本體、以及覆蓋在其頂部表面的防護(hù)透光薄膜構(gòu)成,標(biāo)識本體由至少兩層植入有點陣圖像單元組的透光薄膜依次重疊構(gòu)成,植入在不同所述透光薄膜上的所述點陣圖像單元組的位置不同,所述點陣圖像單元組中包括有至少一個圖像點,至少兩個所述點陣圖像單元組相組合以構(gòu)成完整的點陣圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識,其特征在于,所述標(biāo)識本體由三層植入有點陣圖像單元組的透光薄膜依次重疊構(gòu)成,每個所述點陣圖像單元組中均是包括有三個按順序分布的圖像點。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識,其特征在于,所述透光薄膜與所述防護(hù)透光薄膜均為塑料透光薄膜,所述塑料透光薄膜的厚度3000nm~0.25mm的硬質(zhì)薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識,其特征在于,所述硬質(zhì)薄膜為有色或無色的硬質(zhì)薄膜。
5.一種制造權(quán)利要求4中所述復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識的方法,包括以下步驟:
a、將生成的點陣圖像劃分為與透光薄膜數(shù)量相同的點陣圖像單元組;
b、將點陣圖像單元組按照在點陣圖像中的位置植入在與其相對應(yīng)的透光薄膜上;
c、將多個植入有點陣圖像單元組的透光薄膜相重疊,以形成復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于,在步驟a中,采用人工劃分方式將點陣圖像切分為與透光薄膜數(shù)量相同的點陣圖像單元組。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于,在步驟b中,按照選取點陣圖像單元組的先后順序,將點陣圖像單元組分別植入在透光薄膜上與點陣圖像相對應(yīng)的點陣圖像組點位上。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于,在步驟c中,多個植入有點陣圖像單元組的透光薄膜被疊加放置在熱壓模具中進(jìn)行熱壓處理,從而形成復(fù)合式點陣圖像標(biāo)識。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一所述的制造方法,其特征在于,在步驟a實施前,還需要根據(jù)隨機碼生成與其相對應(yīng)的點陣圖像,并將點陣圖像與商品防偽信息進(jìn)行綁定,從而點陣圖像的編碼信息能夠與商品防偽信息相對應(yīng)。
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