[發明專利]一種空間等離子體探測器表面的石墨涂層及其制備方法有效
| 申請號： | 201410447555.0 | 申請日： | 2014-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN104289407A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發明（設計）人： | 王佐磊;馬勉軍;吳先明;蔣釗;陳燾;張宇;歐陽新艷 | 申請（專利權）人： | 蘭州空間技術物理研究所 |
| 主分類號： | B05D7/24 | 分類號： | B05D7/24;B05D3/12 |
| 代理公司： | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人： | 仇蕾安;李愛英 |
| 地址： | 730000 甘*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 空間 等離子體 探測器 表面 石墨 涂層 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種空間等離子體探測器表面的石墨涂層，其特征在于，用于噴涂所述石墨涂層的材料為環氧基石墨涂料，石墨涂層厚度為D≥d；
d＝EQt
式中，E＝1.3×10-30m3/atom；
Qt＝T×Q
式中，T為等離子體探測器在軌壽命，Q為等離子體探測器單位時間單位面積接收的氧原子個數。
2.一種如權利要求1所述空間等離子體探測器表面的石墨涂層的制備方法，其特征在于，具體過程為：
S01，根據等離子體探測器在軌壽命T計算在軌期間接收的原子氧通量Qt，
Qt＝T×Q
式中，Q為等離子體探測器單位時間單位面積接收的氧原子個數；
根據所述原子氧通量Qt計算制備石墨涂層的最小厚度d＝EQt，E＝1.3×10-30m3/atom；
考慮噴涂方法獲得涂層的不均性δ及后續機械加工對石墨涂層的去除量σ，確定噴涂固化后的石墨涂層厚度D′≥d+δ+σ；
S02，噴涂時將環氧基石墨涂料的粘度控制在涂-4粘度計測定的20s左右，控制噴涂時的出料量使單層噴涂的厚度控制在5～7μm，采用多次噴涂工藝使噴涂固化后的涂層厚度為D′；其中在兩次噴涂之間進行約10分鐘的空氣干燥；
S03，利用精銑工藝對平面結構表面的石墨涂層進行機械加工，利用精車工藝對曲面結構表面的石墨涂層進行機械加工，去除涂層中的不均勻部分，保證涂層的厚度不小于d，實現石墨涂層的制備。
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